古澤孝弘 KOZAWA Takahiro

… 別表記

古沢孝弘フルザワタカヒロ

小澤孝弘コザワタカヒロ

研究者番号	20251374
その他のID	https://orcid.org/0009-0004-5240-5859
外部サイト
所属 (現在)	2025年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2024年度 – 2025年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 2011年度 – 2022年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 2007年度 – 2010年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 准教授 2003年度 – 2006年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 助教授 1996年度 – 2002年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 助手 1994年度 – 1995年度: 東京大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野	研究代表者原子力学 / 中区分31:原子力工学、地球資源工学、エネルギー学およびその関連分野 / エネルギー学一般・原子力学 / 量子ビーム科学 / 原子力学研究代表者以外原子力学 / 原子力学 / エネルギー学一般・原子力学 / ナノ材料・ナノバイオサイエンス
キーワード	研究代表者放射線、X線、粒子線 / 計算物理 / シミュレーション工学 / 半導体超微細化 / 粒子線 / 放射線 / X線 / データ科学 / レジスト / 熱化過程 … もっと見る / 放射線化学 / リソグラフィ / 電子ビーム / 放射線、Ｘ線、粒子線 / X 線 / 原子力エネルギー / 原子・分子物理 / 有機材料 / 二次電子 / ナノ空間 / 微細加工 / 極端紫外光 / 酸 / 化学増幅 / 限界解像度 / ナノテクノロジー / ナノビームプロセス / フェムト秒パルスジオリシス / 分布形状 / 酸発生剤 / 化学増幅型 / レジスト材料 / ナノリソグラフィ / サブピコ秒パルスラジオリシス / 線形加速器 / 磁気パルス圧縮 / Xバンド / 電子線 / フェムト秒 / プロトン / ノボラック / オニウム塩 / パルスラジオリシス / 化学増幅型レジスト … もっと見る研究代表者以外パルスラジオリシス / DNA / レジスト / pulse radiolysis / 放射線化学初期過程 / 電子線 / レーザー / フェムト秒パルスジオリシス / ナノテクノロジー / フェムト秒パルスラジオリシス / 放射線、X線、粒子線 / ΠーΠ相互作用 / ＥＵＶリソグラフィ / 芳香族分子 / 放射線、Ｘ線、粒子線 / ラジカルイオン / 半導体超微細化 / 極端紫外線（ＥＵＶ） / 放射線化学 / photocathode rf gun / double-decker electron beams / ultrafast reactions / time-resolved spectroscopy / attosecond electron beam / femtosecond electron beam / Ultrafast measurement / アト秒電子線励起時間分解吸収分光 / サブフェムト秒電子パルス / ダブルテッカー電子加速器 / アト秒電子線連記時間分解吸収分光 / サブフェムト秒電子線励起時間分解吸収分光 / フォトカソードRF電子銃加速器 / ダブルデッカー電子加速器 / 電子線励起時間分解吸収分光 / フォトカソードRF電子銃 / ダブルデッカー電子ビーム / 超高速反応解析 / 時間分解呼吸分光 / アト秒電子パルス / フェムト秒電子パルス / 計測工学 / resist / spatiotemporal dynamics / reaction mechanism / diffusion / spatial distribution / nanotechnology / nanostructure / femtosecond pulse radiolysis / モンテカルロシミュレーション / 時間挙動 / 反応機構 / 拡散方程式 / 空間分布 / ナノ構造 / primary processes of radiation chemistry / coherent radiation / guanine / hydrated electron / water / femtosecond / 初期過程 / 生体 / 電子ビーム / コヒーレント放射 / 溶媒和電子 / 遠赤外コヒーレント放射 / グアニン / 水和電子 / 水 / フェムト秒 / Charge Transfer Reaction / Smoluchowski equation / Cation Radical / Electron / Geminate Ion Recombination / Alkane / Picosecond Pulse Radiolysis / Primary Processes / フェムト秒レーザー / 電荷移動反応 / スモルコフスキー方程式 / カチオンラジカル / 電子 / ジェミネートイオン再結合 / アルカン / ピコ秒パルスラジオリシス / 放射線分解初期過程 / x-ray diffraction / short x-ray pulse / linac / electron beam / pulseradiolysis / subpicosecond / 中間活性種 / X線回折 / 極短X線パルス / ライナック / サブピコ秒 / プラズマ / 加速器 / プラズマ加速 / レーザー加速 / plasma acceleration / laser acceleration / ナノ空間 / 熱化過程 / 高分子科学 / 化学増幅レジスト / シミュレーション / 量子ビーム / ナノ時空間反応 / 過渡吸収 / カーボンナノチューブ / ポリゲルマン / ポリシラン / 分子素子 / 共役高分子 / 電極レス / 移動度 / 伝導度 / 孤立分子 / マイクロ波隠す

電離放射線用金属含有レジストの反応機構の解明研究代表者
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2024 – 2028
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 審査区分
  
  中区分31:原子力工学、地球資源工学、エネルギー学およびその関連分野
- 研究機関
  大阪大学
量子ビーム科学とデータ科学の融合によるシングルナノ材料開発研究代表者
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2018 – 2022
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 審査区分
  
  中区分31:原子力工学、地球資源工学、エネルギー学およびその関連分野
- 研究機関
  大阪大学
放射線誘起ナノ微細加工における電荷非局在性の影響
- 研究代表者
  
  岡本一将
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  北海道大学
量子ビーム複合利用による最先端微細加工材料のナノ化学の研究研究代表者
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  量子ビーム科学
- 研究機関
  大阪大学
量子ビーム複合利用によるナノ空間反応および反応場の研究研究代表者
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2012
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
凝縮相における熱化電子の大きさの研究研究代表者
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2009 – 2011
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
極端紫外光による超微細加工実現へ向けた学術基盤確立のためのナノ空間反応研究研究代表者
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2007 – 2009
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  2005 – 2008
- 研究種目
  
  基盤研究(S)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
フェムト秒パルスラジオリシスによる極限ナノビームプロセスの創生研究代表者
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2004 – 2006
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
孤立したナノ構造体・分子素子の電極レス伝導度評価技術の開発
- 研究代表者
  
  関修平
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2005
- 研究種目
  
  萌芽研究
- 研究分野
  
  ナノ材料・ナノバイオサイエンス
- 研究機関
  大阪大学
サブフェムト秒・アト秒電子線励起時間分解吸収分光法の基礎研究
- 研究代表者
  
  吉田陽一
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2005
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
サブピコ秒パルスラジオリシス法によるナノリソグラフィ材料の反応機構の解明と開発研究代表者
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2002 – 2003
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ構造内反応機構の解明
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  2002 – 2004
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
フェムト秒量子ビーム複合利用による水溶液の放射線化学初期過程の研究
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  1999 – 2001
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
レーザー同期パルスラジオリシス法による放射線化学初期過程の研究
- 研究代表者
  
  吉田陽一
- 研究期間 (年度)
  1997 – 1998
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  エネルギー学一般・原子力学
- 研究機関
  大阪大学
次世代Xバンド加速によるフェムト秒ライナックの設計研究代表者
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  1996
- 研究種目
  
  奨励研究(A)
- 研究分野
  
  エネルギー学一般・原子力学
- 研究機関
  大阪大学
超高電界レーザープラズマ加速器の研究
- 研究代表者
  
  小方厚
- 研究期間 (年度)
  1995 – 1996
- 研究種目
  
  国際学術研究
- 研究機関
  高エネルギー物理学研究所
サブピコ秒放射線物質相互作用の解明
- 研究代表者
  
  上坂充
- 研究期間 (年度)
  1995 – 1996
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  エネルギー学一般・原子力学
- 研究機関
  東京大学
化学増幅型レジストの放射線誘起反応機構の解明研究代表者
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  1994
- 研究種目
  
  奨励研究(A)
- 研究分野
  
  エネルギー学一般・原子力学
- 研究機関
  東京大学

[雑誌論文] Protected unit distribution near interfaces of chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography2023
- 著者名/発表者名
  Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 62 号: 1 ページ: 016509-016509
- DOI
  10.35848/1347-4065/acb0b2
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Stochastic defect generation depending on tetraalkylhydroxide aqueous developers in extreme ultraviolet lithography2023
- 著者名/発表者名
  Harumoto Masahiko、dos Santos Andreia Figueiredo、Santillan Julius Joseph、Itani Toshiro、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 62 号: 1 ページ: 016503-016503
- DOI
  10.35848/1347-4065/aca9ae
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Exploration of charge transport materials to improve the radiation tolerance of lead halide perovskite solar cells2022
- 著者名/発表者名
  Yoshiyuki Murakami, Ryosuke Nishikubo, Fumitaka Ishiwari, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa , Akinori Saeki
- 雑誌名
  
  Materials Advances
  
  巻: 3 号: 12 ページ: 4861-4869
- DOI
  10.1039/d2ma00385f
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04986, KAKENHI-PLANNED-20H05836, KAKENHI-PROJECT-18H03895, KAKENHI-PROJECT-20H00398, KAKENHI-PROJECT-20H02784, KAKENHI-PROJECT-21K20558, KAKENHI-PUBLICLY-21H00400, KAKENHI-PUBLICLY-22H04541
[雑誌論文] Formulation of trade-off relationships between resolution, line edge roughness, and sensitivity in sub-10 nm half-pitch region for chemically amplified extreme ultraviolet resists2022
- 著者名/発表者名
  Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 61 号: 1 ページ: 016501-016501
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac3ea7
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Estimation of effective reaction radius for catalytic chain reaction of chemically amplified resist by Bayesian optimization2022
- 著者名/発表者名
  Jin Yuqing、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 61 号: 6 ページ: 066504-066504
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac6a36
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Relationship between surface free energy and development process (swelling and dissolution kinetics) of poly(4-hydroxystyrene) film in water and 2.38 wt% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution2022
- 著者名/発表者名
  Ito Yuko Tsutsui、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 61 号: 1 ページ: 016502-016502
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac3d42
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Classification of lines, spaces, and edges of resist patterns in scanning electron microscopy images using unsupervised machine learning2022
- 著者名/発表者名
  Jin Yuqing、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 61 号: 5 ページ: 056505-056505
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac56b5
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Interfacial effects on sensitization of chemically amplified extreme ultraviolet resists2022
- 著者名/発表者名
  Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 61 号: 11 ページ: 116501-116501
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac9500
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Effect of surface free energy of organic underlayer on the dissolution kinetics of poly(4-hydroxystyrene) film in tetramethylammonium hydroxide aqueous developer2022
- 著者名/発表者名
  Otsuka Tomoe、Jin Yuqing、Tanaka Naoki、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 61 号: 5 ページ: 056503-056503
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac5947
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Theoretical study on defect risks of chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography2022
- 著者名/発表者名
  Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 61 号: 10 ページ: 106502-106502
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac8dd1
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Dependence of photoresist dissolution dynamics in alkaline developers on alkyl chain length of tetraalkylammonium hydroxide2022
- 著者名/発表者名
  Harumoto Masahiko、Santillan Julius Joseph、Itani Toshiro、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 61 号: 5 ページ: 056506-056506
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac61f2
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Synthesis and Resist Sensitive Property of Iodine-Containing Materials using Extreme Ultraviolet (EUV) Exposure Tool2022
- 著者名/発表者名
  Yutaro Iwashige, Hiroto Kudo, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 35 号: 1 ページ: 41-47
- DOI
  10.2494/photopolymer.35.41
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2022-12-16
- 言語
  英語
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04986, KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Analysis of mitigating factors for line edge roughness generated during electron beam lithography using machine learning2021
- 著者名/発表者名
  Jin Yuqing、Kozawa Takahiro、Tamura Takao
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 60 号: 7 ページ: 076509-076509
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac0d13
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Dependence of dose rate on the sensitivity of the resist under ultra-high flux extreme ultraviolet (EUV) pulse irradiation2021
- 著者名/発表者名
  Okamoto Kazumasa, Kawai Shunpei, Ikari Yuta, Hori Shigeo, Konda Akihiro, Ueno Koki, Arai Yohei, Ishino Masahiko, Thanhhung Dinh, Nishikino Masaharu, Kon Akira, Owada Shigeki, Inubushi Yuichi, Kinoshita Hiroo, Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Applied Physics Express
  
  巻: 14 号: 6 ページ: 066502-066502
- DOI
  10.35848/1882-0786/abfca3
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K15402, KAKENHI-PROJECT-19K05330, KAKENHI-PROJECT-18H03895, KAKENHI-PROJECT-21H03750
[雑誌論文] Study on radical dianions of carboxylates used as ligands of metal oxide nanocluster resists2021
- 著者名/発表者名
  Ikeuchi Kengo、Muroya Yusa、Ikeda Takuya、Komuro Yoshitaka、Kawana Daisuke、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 60 号: 7 ページ: 076503-076503
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac06db
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895, KAKENHI-PROJECT-20H02667
[雑誌論文] Estimation of electron affinity of photoacid generators: density functional theory calculations using static and dynamic models2021
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 60 号: SC ページ: SCCC03-SCCC03
- DOI
  10.35848/1347-4065/abf469
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05330, KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Application of machine learning to stochastic effect analysis of chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography2021
- 著者名/発表者名
  Azumagawa Kazuki、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 60 号: SC ページ: SCCC02-SCCC02
- DOI
  10.35848/1347-4065/abe802
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Heating effect of the radiation chemistry of polyhydroxystyrene-type chemically amplified resists2020
- 著者名/発表者名
  Ikari Yuta、Okamoto Kazumasa、Konda Akihiro、Kozawa Takahiro、Tamura Takao
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 59 号: 8 ページ: 086506-086506
- DOI
  10.35848/1347-4065/aba7d7
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Lamellar Orientation of a Block Copolymer via an Electron-Beam Induced Polarity Switch in a Nitrophenyl Self-Assembled Monolayer or Si Etching Treatments2020
- 著者名/発表者名
  Yamamoto Hiroki、Dawson Guy、Kozawa Takahiro、Robinson Alex P. G.
- 雑誌名
  
  Quantum Beam Science
  
  巻: 4 号: 2 ページ: 1-10
- DOI
  10.3390/qubs4020019
- 査読あり / オープンアクセス / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439, KAKENHI-PROJECT-18H03895, KAKENHI-PROJECT-20H02489
[雑誌論文] Analysis of trade-off relationships between resolution, line edge roughness, and sensitivity in extreme ultraviolet lithography using lasso regression2020
- 著者名/発表者名
  Azumagawa Kazuki、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 59 号: 7 ページ: 076501-076501
- DOI
  10.35848/1347-4065/ab984e
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Synthesis and Property of Tellurium-Containing Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography System2020
- 著者名/発表者名
  Kudo Hiroto、Fukunaga Mari、Yamada Teppei、Yamakawa Shinji、Watanabe Takeo、Yamamoto Hiroki、Okamoto Kazumasa、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 32 号: 6 ページ: 805-810
- DOI
  10.2494/photopolymer.32.805
- NAID
  130007789016
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2020-01-31
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Resist thickness dependence of line width roughness of chemically amplified resists used for electron beam lithography2020
- 著者名/発表者名
  Maeda Naoki、Konda Akihiro、Okamoto Kazumasa、Kozawa Takahiro、Tamura Takao
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 59 号: 8 ページ: 086501-086501
- DOI
  10.35848/1347-4065/ab9fde
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Regression analysis of photodecomposable quencher concentration effects on chemical gradient in chemically amplified extreme ultraviolet resist processes2020
- 著者名/発表者名
  Azumagawa Kazuki、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 59 号: 11 ページ: 116505-116505
- DOI
  10.35848/1347-4065/abc29d
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Relationship between Resolution Blur and Stochastic Defect of Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2019
- 著者名/発表者名
  Kozawa Takahiro、Santillan Julius Joseph、Itani Toshiro
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 32 号: 1 ページ: 161-167
- DOI
  10.2494/photopolymer.32.161
- NAID
  130007744330
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2019-06-24
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Theoretical study on trade-off relationships between resolution, line edge roughness, and sensitivity in resist processes for semiconductor manufacturing by extreme ultraviolet lithography2019
- 著者名/発表者名
  Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 58 号: 9 ページ: 096502-096502
- DOI
  10.7567/1347-4065/ab37ff
- NAID
  210000156877
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Pulse radiolysis of carboxylic acids used as ligands of metal oxide nanocluster resists2019
- 著者名/発表者名
  Yamada Teppei、Muroya Yusa、Yamashita Shinichi、Komuro Yoshitaka、Kawana Daisuke、Yamazaki Akiyoshi、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 58 号: 9 ページ: 096504-096504
- DOI
  10.7567/1347-4065/ab3911
- NAID
  210000156909
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Incorporation of chemical amplification in dual insolubilization resists2019
- 著者名/発表者名
  Enomoto Satoshi、Yoshino Takumi、Machida Kohei、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 58 号: 5 ページ: 056504-056504
- DOI
  10.7567/1347-4065/ab0645
- NAID
  210000155634
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Study of electron-beam and extreme-ultraviolet resist utilizing polarity change and radical crosslinking2018
- 著者名/発表者名
  Enomoto Satoshi、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
  
  巻: 36 号: 3 ページ: 031601-031601
- DOI
  10.1116/1.5023061
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Relationship between C=C double bond conversion and dissolution kinetics in cross-linking-type photoresists for display manufacture, studied by real-time Fourier transform infrared spectroscopy and quartz crystal microbalance methods2018
- 著者名/発表者名
  Tsuneishi Asuka、Uchiyama Sachiyo、Hayashi Ryouta、Taki Kentaro、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 57 号: 9 ページ: 096501-096501
- DOI
  10.7567/jjap.57.096501
- NAID
  210000149643
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Dissolution behavior of negative-type photoresists for display manufacture studied by quartz crystal microbalance method2018
- 著者名/発表者名
  Tsuneishi Asuka、Uchiyama Sachiyo、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 57 号: 4 ページ: 046501-046501
- DOI
  10.7567/jjap.57.046501
- NAID
  210000148841
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Effects of an organotin compound on radiation-induced reactions of extreme-ultraviolet resists utilizing polarity change and radical crosslinking2018
- 著者名/発表者名
  Enomoto Satoshi、Yoshino Takumi、Machida Kohei、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 58 号: 1 ページ: 016504-016504
- DOI
  10.7567/1347-4065/aae986
- NAID
  210000135196
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Comparison of Radical Generation Efficiencies of the Oxime-Based Initiator Radicals Using Galvinoxyl Radical as an Indicator2018
- 著者名/発表者名
  A. Tsuneishi, D. Sakamaki, Q. Gao, T. Shoda, T. Kozawa, and S. Seki
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 57(8) 号: 8 ページ: 86504-86504
- DOI
  10.7567/jjap.57.086504
- NAID
  210000149427
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PLANNED-26102011, KAKENHI-PROJECT-18H03895, KAKENHI-PROJECT-17H04874
[雑誌論文] Analysis of dissolution factor of line edge roughness formation in chemically amplified electron beam resist2018
- 著者名/発表者名
  Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 57 号: 12 ページ: 126502-126502
- DOI
  10.7567/jjap.57.126502
- NAID
  210000149888
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Sensitizers in extreme ultraviolet chemically amplified resist: mechanism of sensitivity improvement2018
- 著者名/発表者名
  Yannick Vesters Jing Jiang, Hiroki Yamamoto Danilo De Simone Takahiro Kozawa Stefan De Gendt Geert Vandenberghe
- 雑誌名
  
  J. Micro/Nanolith. MEMS. MOEMS
  
  巻: 17 号: 04 ページ: 1-1
- DOI
  10.1117/1.jmm.17.4.043506
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439, KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Synthesis of hyperbranched polyacetals containing C-(4-t-butylbenz)calix[4]resorcinarene: Resist properties for extreme ultraviolet (EUV) lithography2018
- 著者名/発表者名
  Kudo Hiroto、Fukunaga Mari、Shiotsuki Kohei、Takeda Hiroya、Yamamoto Hiroki、Kozawa Takahiro、Watanabe Takeo
- 雑誌名
  
  Reactive and Functional Polymers
  
  巻: 131 ページ: 361-367
- DOI
  10.1016/j.reactfunctpolym.2018.08.013
- NAID
  120006881343
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Ecofriendly ethanol-developable processes for electron beam lithography using positive-tone dextrin resist material2017
- 著者名/発表者名
  S. Takei, N. Sugino, M. Hanabata, A. Oshima, M. Kashiwakura, T. Kozawa, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 10 号: 7 ページ: 076502-076502
- DOI
  10.7567/apex.10.076502
- NAID
  210000135930
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Study on Resist Performance of Noria Derivatives Modified with Various Protection Ratios of Acetal Moieties by means of Extreme Ultraviolet Irradiation2017
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, H. Kudo, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 30 ページ: 627-631
- NAID
  130006309146
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Synthesis and Property of Tellurium-Containing Polymer for Extreme Ultraviolet Resist Material2017
- 著者名/発表者名
  M. Fukunaga, H. Yamamoto, T. Kozawa, T. Watanabe, and H. Kudo
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 30 ページ: 103-107
- NAID
  130005950306
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Theoretical study on effects of photodecomposable quenchers in line-and-space pattern fabrication with 7 nm quarter-pitch using chemically amplified electron beam resist process2017
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 56 号: 4 ページ: 046502-046502
- DOI
  10.7567/jjap.56.046502
- NAID
  210000147536
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Rational Tuning of Superoxide Sensitivity in SoxR, the [2Fe-2S] Transcription Factor: Implications of Species-Specific Lysine Residues2017
- 著者名/発表者名
  M. Fujikawa, K. Kobayashi, Y. Tsutsui, T. Tanaka, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Biochemistry
  
  巻: 56 号: 2 ページ: 403-410
- DOI
  10.1021/acs.biochem.6b01096
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resists by adding acid-generating promoters2017
- 著者名/発表者名
  Shinya Fujii, Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Toshiro Itani
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 56 号: 6S1 ページ: 06GD01-06GD01
- DOI
  10.7567/jjap.56.06gd01
- NAID
  210000147863
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[雑誌論文] Dynamics of Radical Ions of Hydroxyhexafluoroisopropyl-Substituted Benzenes2017
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, N. Nomura, R. Fujiyoshi, K. Umegaki, H. Yamamoto, K. Kobayashi, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem. A
  
  巻: 121 号: 49 ページ: 9458-9465
- DOI
  10.1021/acs.jpca.7b09842
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036, KAKENHI-PROJECT-15K06662
[雑誌論文] Requirement for Suppression of Line Width Roughness in Fabrication of Line-and-Space Patterns with 7 nm Quarter-Pitch Using Electron Beam Lithography with Chemically Amplified Resist Process2016
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 29 ページ: 809-816
- NAID
  130005338001
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Theoretical study of fabrication of line-and-space patterns with 7 nm quarter-pitch using electron beam lithography with chemically amplified resist process: IV. Comparison with experimental results2016
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 55 号: 5 ページ: 056503-056503
- DOI
  10.7567/jjap.55.056503
- NAID
  210000146475
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Dynamics of radical cations of poly(4-hydroxystyrene) in the presence and absence of triphenylsulfonium triflate as determined by pulse radiolysis of its highly concentrated solution2016
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Ishida, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, and K. Umegaki
- 雑誌名
  
  Chem. Phys. Lett.
  
  巻: 657 ページ: 44-48
- DOI
  10.1016/j.cplett.2016.05.058
- NAID
  120006488393
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036, KAKENHI-PROJECT-15K06662
[雑誌論文] Synthesis and Resist Properties of Calixarene Polymers with Pendant Haloalkyl Groups2016
- 著者名/発表者名
  H. Kudo, H. Ogawa, H. Yamamoto, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 29 ページ: 495-500
- NAID
  130005256573
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Chemically amplified molecular resists based on noria derivatives containing adamantyl ester groups for electron beam lithography2016
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, S. Tagawa, T. Kozawa, H. Kudo, and K. Okamoto
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 34 号: 4 ページ: 041606-041606
- DOI
  10.1116/1.4953068
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036, KAKENHI-PROJECT-26706027
[雑誌論文] Theoretical study of fabrication of line-and-space patterns with 7 nm quarter-pitch using electron beam lithography with chemically amplified resist process: V. Optimum beam size2016
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 55 号: 10 ページ: 106502-106502
- DOI
  10.7567/jjap.55.106502
- NAID
  210000147139
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Relationships between quencher diffusion constant and exposure dose dependences of line width, line edge roughness, and stochastic defect generation in extreme ultraviolet lithography2015
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 54 号: 1 ページ: 016502-016502
- DOI
  10.7567/jjap.54.016502
- NAID
  210000144712
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Effects of dose shift on line width, line edge roughness, and stochastic defect generation in chemically amplified extreme ultraviolet resist with photodecomposable quencher2015
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 54 号: 1 ページ: 016503-016503
- DOI
  10.7567/jjap.54.016503
- NAID
  210000144713
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Modeling and simulation of acid generation in anion-bound chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography2015
- 著者名/発表者名
  Y. Komuro, D. Kawana, T. Hirayama, K. Ohomori, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 54 号: 3 ページ: 036506-036506
- DOI
  10.7567/jjap.54.036506
- NAID
  210000144872
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Effects of diffusion constant of photodecomposable quencher on chemical gradient of chemically amplified extreme-ultraviolet resists2015
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 54 号: 5 ページ: 056502-056502
- DOI
  10.7567/jjap.54.056502
- NAID
  210000145155
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Optimum concentration ratio of photodecomposable quencher to acid generator in chemically amplified extreme ultraviolet resists2015
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 54 号: 12 ページ: 126501-126501
- DOI
  10.7567/jjap.54.126501
- NAID
  210000145864
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Dynamics of radical ions of fluorinated polymer for Extreme Ultraviolet (EUV) lithography2015
- 著者名/発表者名
  N. Nomura, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 9658 ページ: 96581C-96581C
- DOI
  10.1117/12.2193060
- 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662, KAKENHI-PROJECT-25630424
[雑誌論文] Study on Dissolution Behavior of Poly(4-hydroxystyrene) as Model Polymer of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography2015
- 著者名/発表者名
  M. Mitsuyasu, H. Yamamoto, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 28 ページ: 119-124
- NAID
  130005090251
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Acid Quantum Efficiency of Anion-bound Chemically Amplified Resists upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation2015
- 著者名/発表者名
  Y. Komuro, D. Kawana, T. Hirayama, K. Ohmori, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 28 ページ: 501-505
- NAID
  130005101106
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Resist material options for extreme ultraviolet lithography2015
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Adv. Opt. Techn.
  
  巻: 4 ページ: 311-317
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Relationship between stochasticity and wavelength of exposure source in lithography2014
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 53 号: 6 ページ: 066505-066505
- DOI
  10.7567/jjap.53.066505
- NAID
  210000144040
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Acid diffusion length in contact hole imaging of chemically amplified extreme ultraviolet resists2014
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and T. Hirayama
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 53 号: 1 ページ: 16503-16503
- DOI
  10.7567/jjap.53.016503
- NAID
  210000143250
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Theoretical relationship between quencher diffusion constant and effective reaction radius for neutralization in contact hole imaging using chemically amplified extreme ultraviolet resists2014
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and T. Hirayama
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 53 号: 6 ページ: 066502-066502
- DOI
  10.7567/jjap.53.066502
- NAID
  210000144037
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Effect of photodecomposable quencher on latent image quality in extreme ultraviolet lithography2014
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 53 号: 6 ページ: 066508-066508
- DOI
  10.7567/jjap.53.066508
- NAID
  210000144043
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Acid generation mechanism in anion-bound chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography2014
- 著者名/発表者名
  Y. Komuro, H. Yamamoto, K. Kobayashi, Y. Utsumi, K. Ohomori, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 53 号: 11 ページ: 116503-116503
- DOI
  10.7567/jjap.53.116503
- NAID
  210000144600
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Theoretical Relationship between Quencher Diffusion Constant and Image Quality in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2013
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 52 号: 7R ページ: 76504-76504
- DOI
  10.7567/jjap.52.076504
- NAID
  210000142465
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Chemical Gradient of Contact Hole Latent Image Created in Chemically Amplified ExtremeUltraviolet Resists2013
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and T. Hirayama
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 52巻号: 4R ページ: 46502-46502
- DOI
  10.7567/jjap.52.046502
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Stochastic Effect on Contact Hole Imaging of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2013
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and T. Hirayama
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 52 号: 8R ページ: 86501-86501
- DOI
  10.7567/jjap.52.086501
- NAID
  40019757406
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Deprotonation of poly(4-hydroxystyrene) intermediates: pulse radiolysis study of EUV and electron beam resist2013
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Tyo Matsuda, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Ryoko Fujiyoshi, and Takashi Sumiyoshi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 52 号: 6S ページ: 06GC04-06GC04
- DOI
  10.7567/jjap.52.06gc04
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037, KAKENHI-PROJECT-25246036, KAKENHI-PROJECT-25630424
[雑誌論文] Effect of Initial Dispersion of Protected Units on Line Edge Roughness of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2013
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 26 ページ: 643-648
- NAID
  130004465046
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Theoretical Study on Acid Diffusion Length in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2013
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 52巻号: 1R ページ: 16501-16501
- DOI
  10.7567/jjap.52.016501
- NAID
  210000141741
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Electron and Hole Transfer in Anion-Bound Chemically Amplified Resists Used in ExtremeUltraviolet Lithography2013
- 著者名/発表者名
  Y. Komuro, H. Yamamoto, Y. Utsumi, K. Ohomori, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 6巻号: 1 ページ: 14001-14001
- DOI
  10.7567/apex.6.014001
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Lower Limit of Line Edge Roughness in High-Dose Exposure of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2012
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 51巻号: 6S ページ: 06FC01-06FC01
- DOI
  10.1143/jjap.51.06fc01
- NAID
  210000140711
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Relationship between Stochastic Effect and Line Edge Roughness in Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography Studied by Monte Carlo Simulation2012
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 51巻号: 8R ページ: 86504-86504
- DOI
  10.1143/jjap.51.086504
- NAID
  40019395627
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Effect of Ultrahigh-Density Ionization of Resist Films on Sensitivity Using Extreme-Ultraviolet Free-Electron Laser2012
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, K. Oikawa, T. Hatsui, M. Nagasono, T. Kameshima, T. Togashi, K. Tono, M. Yabashi, H. Kimura, Y. Senba, H. Ohashi, R. Fujiyoshi, and T. Sumiyoshi
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 5巻号: 9 ページ: 96701-96701
- DOI
  10.1143/apex.5.096701
- NAID
  40019425422
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128, KAKENHI-PROJECT-24561037
[雑誌論文] Relationship between Absorption Coefficient and Line Edge Roughness of Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2012
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 25 ページ: 625-631
- NAID
  130004833489
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Relationship between Absorption Coefficient and Line Edge Roughness of Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2012
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol
  
  巻: 25巻ページ: 625-631
- NAID
  130004833489
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Stochastic Effect of Acid Catalytic Chain Reaction in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2012
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 51巻号: 11R ページ: 116503-116503
- DOI
  10.1143/jjap.51.116503
- NAID
  40019496245
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Effect of Molecular Weight and Protection Ratio on Latent Image Fluctuation of Chemically Amplified ExtremeUltraviolet Resists2012
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 51巻号: 12R ページ: 126501-126501
- DOI
  10.1143/jjap.51.126501
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Resist Properties Required for 6.67nm Extreme Ultraviolet Lithography2012
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and A. Erdmann
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 51巻号: 10R ページ: 106701-106701
- DOI
  10.1143/jjap.51.106701
- NAID
  40019456428
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Analysis of Dose-Pitch Matrices of Line Width and Edge Roughness of Chemically Amplified Fullerene Resist2011
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 50巻号: 12R ページ: 126501-126501
- DOI
  10.1143/jjap.50.126501
- NAID
  40019141217
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Effect of Acid Generator Decomposition during Exposure on Acid Image Quality of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2011
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 50巻号: 7R ページ: 76505-76505
- DOI
  10.1143/jjap.50.076505
- NAID
  40018915999
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Geminate Charge Recombination in Liquid Alkane with Concentrated CCl4 : Effects of CCl4 Radical Anion and Narrowing of Initial Distribution of Cl-2011
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, N.Yamamoto, Y.Yoshida, T.Kozawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem.A
  
  巻: 115 号: 36 ページ: 10166-10173
- DOI
  10.1021/jp205989r
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686064, KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Determination of Optimum Thermalization Distance Based on Trade-off Relationship between Resolution, Line Edge Roughness, and Sensitivity of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2011
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol
  
  巻: 24巻ページ: 137-142
- NAID
  130004833385
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Assessment and Extendibility of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography: Consideration of Nanolithography beyond 22nm Half-Pitch2011
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 50巻号: 7R ページ: 76503-76503
- DOI
  10.1143/jjap.50.076503
- NAID
  40018915997
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Thermalization Distance of Electrons Generated in Poly(4-hydroxystyrene) Film Containing Acid Generator upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation2011
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 50巻号: 3R ページ: 30209-30209
- DOI
  10.1143/jjap.50.030209
- NAID
  210000070073
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Determination of Optimum Thermalization Distance Based on Trade-off Relationship between Resolution, Line Edge Roughness, and Sensitivity of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2011
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol.
  
  巻: 24 ページ: 137-142
- NAID
  130004833385
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Radiation Chemistry in Chemically Amplified Resists2010
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 49巻号: 3R ページ: 30001-30001
- DOI
  10.1143/jjap.49.030001
- NAID
  40017033684
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene)-Based Chemically Amplified Resists for Extreme-Ultraviolet and Electron Beam Lithographies2010
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 49巻号: 10R ページ: 106501-106501
- DOI
  10.1143/jjap.49.106501
- NAID
  40017341248
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128, KAKENHI-PROJECT-22760669
[雑誌論文] Radiation Chemistry of Fluoronbphthalene as a Candidate for Absorption Enhancement Component of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2010
- 著者名/発表者名
  S.Ikeda, K.Okamoto, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa, T.Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys.
  
  巻: 49 ページ: 96504-96504
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Diffusion Control Using Matrix Change during Chemical Reaction for Inducing Anisotropic Diffusion in Chemically Amplified Resists2010
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Oizumi, T.Itani, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys.
  
  巻: 49 ページ: 36506-36506
- NAID
  40017033747
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Formation and Decay of Fluorobenzene Radical Anions Affected by Their Isomeric Structures and the Number of Fluorine Atoms2010
- 著者名/発表者名
  S.Higashino, A.Saeki, K.Okamoto, S.Tagawa, T.Kozawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem.A
  
  巻: 114 ページ: 8069-8074
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Reconstruction of Latent Images from Dose-Pitch Matrices of Line Width and Edge Roughness of Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography2010
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Oizumi, T.Itani, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys.
  
  巻: 49 ページ: 66504-66504
- NAID
  40017176043
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Reconstruction of Latent Images from Dose-Pitch Matrices of Line Width and Edge Roughness of Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography2010
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 49巻号: 6R ページ: 66504-66504
- DOI
  10.1143/jjap.49.066504
- NAID
  40017176043
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene)-Based Chemically Amplified Resists for Extreme-Ultraviolet and Electron Beam Lithographies2010
- 著者名/発表者名
  K.Okamoto, M.Tanaka, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys.
  
  巻: 49 ページ: 106501-106501
- NAID
  40017341248
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Radiation Chemistry in Chemically Amplified Resists2010
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys.
  
  巻: 49 ページ: 30001-30001
- NAID
  40017033684
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Radiation Chemistry of Fluoronaphthalene as a Candidate for Absorption Enhancement Component of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2010
- 著者名/発表者名
  S. Ikeda, K. Okamoto, H. Yamamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 49巻号: 9R ページ: 96504-96504
- DOI
  10.1143/jjap.49.096504
- NAID
  40017294753
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Diffusion Control Using Matrix Change during Chemical Reaction for Inducing Anisotropic Diffusion in Chemically Amplified Resists2010
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 49巻号: 3R ページ: 36506-36506
- DOI
  10.1143/jjap.49.036506
- NAID
  40017033747
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Formation and Decay of Fluorobenzene Radical Anions Affected by Their Isomeric Structures and the Number of Fluorine Atoms2010
- 著者名/発表者名
  S. Higashino, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem. A
  
  巻: 114巻号: 31 ページ: 8069-8074
- DOI
  10.1021/jp102828g
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Latent Image Created Using Small-Field Exposure Tool for Extreme Ultraviolet Lithography2009
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Oizumi, T.Itani, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 48
  
  ページ: 106506-106506
- NAID
  40016796079
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] 放射線化学に基づく化学増幅型EB・EUVレジスト材料・プロセスの研究2009
- 著者名/発表者名
  古澤孝弘
- 雑誌名
  
  放射線化学 87巻
  
  ページ: 2-13
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Correlation between C37 Parameters and Acid Yields in Chemically Amplified Resists upon Exposure to 75 keV Electron Beam2009
- 著者名/発表者名
  K.Natsuda, T.Kozawa, K.Okamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 48
  
  ページ: 6-5
- NAID
  210000066905
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Evaluation of Chemical Gradient Enhancement Methods for Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2009
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 48巻号: 12 ページ: 126004-126004
- DOI
  10.1143/jjap.48.126004
- NAID
  40016890521
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene) and Its Copolymer for Extreme Ultraviolet and Electron Beam Resists2009
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys 48巻
- NAID
  210000066906
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] 放射線化学に基づく化学増幅型EB・EUVレジスト材料・プロセスの研究2009
- 著者名/発表者名
  古澤孝弘
- 雑誌名
  
  放射線化学 87
  
  ページ: 2-13
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Latent Image Created Using Small-Field Exposure Tool for Extreme Ultraviolet Lithography2009
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 48巻号: 10 ページ: 106506-106506
- DOI
  10.1143/jjap.48.106506
- NAID
  40016796079
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Correlation between C37 Parameters and Acid Yields in Chemically Amplified Resists upon Exposure to 75 keV Electron Beam2009
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 48巻号: 6S ページ: 06FC05-06FC05
- DOI
  10.1143/jjap.48.06fc05
- NAID
  210000066905
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Reactivity of Haloge nated Resist Polymer with Low-Energy Electrons2009
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa, T.Mimura, H.Yukawa, J.Onodera
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 48
  
  ページ: 6-9
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Evaluation of Chemical Gradient Enhancement Methods for Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2009
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Oizumi, T.Itani, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 48
  
  ページ: 126004-126004
- NAID
  40016890521
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Effect of Polymer Protection and Film Thickness on Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resists2009
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, H. Yamamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol 22巻
  
  ページ: 105-109
- NAID
  40016635401
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Effect of Molecular Structure on Depth Profile of Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resist Films2009
- 著者名/発表者名
  T.Fukuyama, T.Kozawa, K.Okamoto, S.Tagawa, M.Irie, T.Mimura, T.Iwai, J.Onodera, I.Hirosawa, T.Koganesawa, K.Horie
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 48
- NAID
  210000066903
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Effect of Polymer Protection and Film Thickness on Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resists2009
- 著者名/発表者名
  T.Fukuyama, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa, M.Irie, T.Mimura, T.Iwai, J.Onodera, I.Hirosawa, T.Koganesawa, K.Horie
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 22
  
  ページ: 105-109
- NAID
  40016635401
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Effect of Molecular Structure on Depth Profile of Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resist Films2009
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys 48巻
- NAID
  210000066903
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Dynamics of Radical Cation of Poly (4-hydroxystyrene) and Its Copolymer for Extreme Ultraviolet and Electron Beam Resists2009
- 著者名/発表者名
  K.Okamoto, M.Tanaka, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 48
- NAID
  210000066906
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Reactivity of Halogenated Resist Polymer with Low-Energy Electrons2009
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Mimura, H. Yukawa, and J. Onodera
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 48巻号: 6S ページ: 06FC09-06FC09
- DOI
  10.1143/jjap.48.06fc09
- NAID
  210000066909
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Resolution degradation caused by multispur effect in chemically amplified extreme ultraviolet resists2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys 103巻
  
  ページ: 84306-84306
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Study of the Reaction of Acid Generators with Epithermal and Thermalized Electrons2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 47 ページ: 4932-4935
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] X-ray reflectivity study on depth profile of acid generator distribution in chemically amplified resists2008
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, S. Tagawa, R. Takasu, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express 1
  
  ページ: 65004-65004
- NAID
  10025081173
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Resolution degradation caused by multispur effect in chemically amplified extreme ultraviolet resists2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys. (2008) 103
  
  ページ: 84306-84306
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Formation of Intramolecular Poly(4-hydroxystyrene) Dimer Radical Cation2008
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, K. Natsuda, S. Seki, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem B 112
  
  ページ: 9275-9280
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study of the Reaction of Acid Generators with Epithermal and Thermalized Electrons2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 47
  
  ページ: 4932-4935
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Theoretical Study on the Dependence of Acid Distribution on Material Properties of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 47
  
  ページ: 6288-6292
- NAID
  40016210997
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Effects of Rate Constant for Deprotection on Latent Image Formation in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 47 ページ: 4926-4931
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Resolution degradation caused by multispur effect in chemically amplified extreme ultraviolet resists2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys.
  
  巻: 103 ページ: 84306-84306
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Enhancement of Acid Production in Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography2008
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express 1
  
  ページ: 47001-47001
- NAID
  10025080127
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Latent image formation in chemically amplified extreme ultraviolet resists with low activation energy for deprotection reaction2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa J. J. Santillan, T. Itani
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 26 ページ: 2257-2260
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] heoretical Study on the Dependence of Acid Distribution on Material Properties of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys 47巻
  
  ページ: 6288-6292
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Difference between Acid Generation Mechanisms in Poly(hydroxystyrene)- and Polyacrylate-Based Chemically Amplified Resists upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation2008
- 著者名/発表者名
  R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, D. Shimizu, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 47
  
  ページ: 7125-7127
- NAID
  40016294928
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Difference in Reaction Schemes in Photolysis of Triphenylsulfonium Salts between 248 nm and Dry/Wet 193 nm Resists2008
- 著者名/発表者名
  Y. Matsui, H. Sugawara, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Itani
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 1 ページ: 36001-36001
- NAID
  10025079690
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Feasibility Study of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists for 22 nm Fabrication2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 47 ページ: 4465-4468
- NAID
  40016110961
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study of the Reaction of Acid Generators with Epithermal and Thermalized Electrons2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys 47巻
  
  ページ: 4932-4935
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Dependence of Acid Generation Efficiency on Molecular Structures of Acid Generators upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation2008
- 著者名/発表者名
  R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 1 ページ: 27004-27004
- NAID
  10025079296
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Stroboscopic picosecond pulse radiolysis using near-ultraviolet-enhanced femtosecond continuum generated by CaF22007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys 46
  
  ページ: 407-411
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Acid distribution in chemically amplified extreme ultraviolet resist2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, M. J. Leeson
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 25 ページ: 2481-2485
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Image contrast slope and line edge roughness of chemically amplified resists for postoptical lithography2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 25 ページ: 2295-2300
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Acid distribution in chemically amplified extreme ultraviolet resist2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, and M. J. Leeson
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B 25
  
  ページ: 2481-2485
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Subpicosecond pulse radiolysis in liquid methyl-substituted benzene derivatives, Radiat2007
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Phys. Chem 76
  
  ページ: 818-826
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Point Spread Function for the Calculation of Acid Distribution in Chemically Amplified Resists Used for Electron-Beam Lithography2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys 46巻
- NAID
  210000063830
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Reactivity between Biphenyl and Precursor of Solvated Electrons in Tetrahydrofuran Measured by Picosecond Pulse Radiolysis in Near-ultraviolet, Visible, and Infrared2007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, Y. Ohnishi, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem. A 111
  
  ページ: 1229-1235
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study of Acid-Base Equilibrium in Chemically Amplified Resist2007
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys 46巻
  
  ページ: 7285-7289
- NAID
  40015705098
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Point Spread Function for the Calculation of Acid Distribution in Chemically Amplified Resists Used for Electron-Beam Lithography2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
- NAID
  210000063830
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Stroboscopic picosecond pulse radiolysis using near-ultraviolet-enhanced femtosecond continuum generated by CaF_22007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa,
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
  
  ページ: 407-411
- NAID
  10018705573
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reactivity between Biphenyl and Precursor of Solvated Electrons in Tetrahydrofuran Measured by Picosecond Pulse Radiolysis in Near-ultraviolet, Visible, and Infrared2007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, Y. Ohnishi, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Reactivity between Biphenyl and Precursor of Solvated Electrons in Tetrahydrofuran Measured by Picosecond Pulse Radiolysis in Near-ultraviolet, Visible, and Infrared A 111
  
  ページ: 1229-1235
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Dependence of Absorption Coefficient and Acid Generation Efficiency on Acid Generator Concentration in Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography2007
- 著者名/発表者名
  R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46
- NAID
  40015671035
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Polymer structure dependence of acid generation in chemically amplified extreme ultraviolet resists2007
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, M. J. Leeson
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46
- NAID
  10018868104
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Point Spread Function for the Calculation of Acid Distribution in Chemically Amplified Resists Used for Electron-Beam Lithography2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46
- NAID
  210000063830
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Theoretical Study on Relationship between Acid Generation Efficiency and Acid Generator Concentration in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46
- NAID
  210000063809
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Single-Component Chemically Amplified Resist Based on Dehalogenation of Polymer2007
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano,
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
- NAID
  40015511976
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Sensitization Distance and Acid Generation Efficiency in a Model System of Chemically Amplified Electron Beam Resist with Methacrylate Backbone Polymer2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol. 20
  
  ページ: 577-583
- NAID
  130004464589
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study of Acid-Base Equilibrium in Chemically Amplified Resist2007
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
  
  ページ: 7285-7289
- NAID
  40015705098
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Effect of Acid Diffusion and Polymer Structure on Line Edge Roughness2007
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano,
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
  
  ページ: 6187-6190
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study of Acid-Base Equilibrium in Chemically Amplified Resist2007
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46 ページ: 7285-7289
- NAID
  40015705098
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Subpicosecond pulse radiolysis in liquid methyl-substituted benzene derivatives2007
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Radiat. Phys. Chem. 76
  
  ページ: 818-826
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Acid distribution in chemically amplified extreme ultraviolet resist2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, H.B. Cao, H. Deng, M.J. Leeson
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B 25巻
  
  ページ: 2481-2485
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[雑誌論文] Resolution blur of latent acid image and acid generation efficiency of chemically amplified resists for electron beam lithography2006
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys. 99
  
  ページ: 54509-54509
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Line edge roughness of a latent image in post-optical lithography2006
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao
- 雑誌名
  
  Nanotechnology
  
  巻: 17 ページ: 1543-1546
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reactivity of Acid Generators for Chemically Amplified Resists with Low-Energy Electrons2006
- 著者名/発表者名
  A. Nakano, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Szreder, J. F. Wishart, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 45
- NAID
  10018159212
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Picosecond pulse radiolysis using femtosecond white light with a high S/N spectrum acquisition system in one beam shot2006
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl. Instrum. Meth. A 556
  
  ページ: 391-396
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Pulse radiolysis of polystyrene in cyclohexane -Effect of carbon tetrachloride on kinetic dynamics of dimer radical cation-2006
- 著者名/発表者名
  K.Okamoto, T.Kozawa, M.Miki, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Chem. Phys. Lett. 426
  
  ページ: 306-310
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Acid Generation Mechanism of Poly (4-hydroxystyrene) -Based Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography : Acid Yield and Deprotonation Behavior of Poly (4-hydroxystyrene) and Poly (4-methoxystyrene)2006
- 著者名/発表者名
  A. Nakano, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 45 ページ: 6866-6871
- NAID
  10018245439
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Resolution blur of latent acid image and acid generation efficiency of chemically amplified resists for electron beam lithography2006
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys 99
  
  ページ: 54509-54509
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Picosecond pulse radiolysis using femtosecond white light with a high S/N spectrum acquisition system in one beam shot, Nucl2006
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Instrum. Meth A 556
  
  ページ: 391-396
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reaction mechanism of fluorinated chemically amplified resists2006
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 24 ページ: 1833-1836
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Effects of Low Energy Electrons on Pattern Formation in Chemically Amplified Resist2006
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol. 19
  
  ページ: 361-366
- NAID
  130004833103
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Resolution blur of latent acid image and acid generation efficiency of chemically amplified resists for electron beam lithography2006
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys. 99
  
  ページ: 54509-54509
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Femtosecond single electron bunch generation by rotating longitudinal bunch phase space in magnetic field2006
- 著者名/発表者名
  J. Yang, T. Kondoh, K. Kan, T. Kozawa, Y. Yoshida, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl. Instrum. Meth. A
  
  巻: 556 ページ: 52-56
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Femtosecond single electron bunch generation by rotating longitudinal bunch phase space in magnetic field2006
- 著者名/発表者名
  J.Yang, T.Kondoh, K.Kan, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A 556
  
  ページ: 52-56
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Protonation sites in chemically amplified resists for electron beam lithography2006
- 著者名/発表者名
  K.Natsuda, T.Kozawa, K.Okamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 45
- NAID
  10018460952
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Equivalent Velocity Spectroscopy for Femtosecond Pulse Radiolysis2006
- 著者名/発表者名
  T.Kondoh, J.Yang, T.Kozawa, S.Tagawa, Y.Yoshida
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics (in press)
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Relationship between Acid Generator Concentration and Acid Yield in Chemically Amplified Electron Beam Resist2006
- 著者名/発表者名
  T. Shigaki, K. Okamoto, T. Kozawa, H. Yamamoto, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 45 ページ: 5735-5737
- NAID
  10017999650
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Protonation sites in chemically amplified resists for electron beam lithography2006
- 著者名/発表者名
  K.Natsuda, T.Kozawa, K.Okamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 45
- NAID
  10018460952
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Femtosecond single electron bunch generation by rotating longitudinal bunch phase space in magnetic field2006
- 著者名/発表者名
  J.Yang, T.Kondoh, K.Kan, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl.Instr.and Meth.A 556
  
  ページ: 52-56
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Pulse radiolysis of polystyrene in cyclohexane -Effect of carbon tetrachloride on kinetic dynamics of dimer radical cation-2006
- 著者名/発表者名
  K.Okamoto, T.Kozawa, M.Miki, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Chem. Phys. Lett. 426
  
  ページ: 306-310
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Protonation sites in chemically amplified resists for electron beam lithography Jpn2006
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys 45
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Correlation between proton dynamics and line edge roughness in chemically amplified resist for post-optical lithography2006
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 24 ページ: 3066-3072
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Acid generation efficiency in a model system of chemically amplified extreme ultraviolet resist2006
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, H. Oizumi, I. Nishiyama
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 24
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Analysis of Acid Yield Generated in Chemically Amplified Electron Beam Resist2006
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, T. Shigaki, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 24 ページ: 3055-3060
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Effects of Low Energy Electrons on Pattern Formation in Chemically Amplified Resist2006
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol. 19
  
  ページ: 361-366
- NAID
  130004833103
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Equivalent Velocity Spectroscopy for Femtosecond Pulse Radiolysis2006
- 著者名/発表者名
  T.Kondoh, J.Yang, T.Kozawa, S.Tagawa, Y.Yoshida
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics (In press)
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Pulse radiolysis based on a femtosecond electron beam and a femtosecond laser light with double-pulse injection technique2006
- 著者名/発表者名
  J. Yang, T. Kondoh, T. Kozawa, Y. Yoshida, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Radiat. Phys. Chem.
  
  巻: 75 ページ: 1034-1040
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Dependence of Acid Yield on Chemically Amplified Electron Beam Resist Thickness2006
- 著者名/発表者名
  T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 45
  
  ページ: 5445-5449
- NAID
  10017998648
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Picosecond pulse radiolysis using femtosecond white light with a high S/N spectrum acquisition system in one beam shot2006
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl. Instrum. Meth. A 556
  
  ページ: 391-396
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Dependence of Acid Yield on Chemically Amplified Electron Beam Resist Thickness2006
- 著者名/発表者名
  T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 45
  
  ページ: 5445-5449
- NAID
  10017998648
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Pulse radiolysis based on a femtosecond electron beam and a femtosecond laser light with double-pulse injection technique2006
- 著者名/発表者名
  J.Yang, T.Kondoh, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Radiation Physics and Chemistry (in press)
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol.B 23
  
  ページ: 2716-2720
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Multi spur effect on decay kinetics of geminate ion recombination using Monte Carlo technique2005
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl.Instrum.Meth. B234
  
  ページ: 285-290
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Resist Thickness Effect on Acid Concentration Generated in Poly(4-hydroxystyrene) Film upon Exposure to 75 keV Electron Beam2005
- 著者名/発表者名
  T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
- NAID
  10016856520
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Basic Aspects of Acid Generation Process in Chemically Amplified Electron Beam Resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology., 18
  
  ページ: 471-474
- NAID
  130004464438
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Effects of Dielectric Constant on Acid Generation in Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, K.Okamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 3908-3912
- NAID
  10016441312
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Effects of Dielectric Constant on Acid Generation in Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, K.Okamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 3908-3912
- NAID
  10016441312
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Potential Cause of Inhomogeneous Acid Distribution in Chemically Amplified Resists for Post Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 44 ページ: 5836-5838
- NAID
  10016678367
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Requirements for Laser-Induced Desorption/Ionization on Submicrometer Structures2005
- 著者名/発表者名
  S. Okuno, R. Arakawa, K. Okamoto, Y. Matsui, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa, Y. Wada
- 雑誌名
  
  Anal. Chem.
  
  巻: 77 ページ: 5364-5369
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science Technology B 23
  
  ページ: 2716-2720
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Nanopatterning of polyfluorene derivative using electron-beam lithography2005
- 著者名/発表者名
  Y.Doi, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B23
  
  ページ: 2051-2055
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Resist Thickness Effect on Acid Concentration Generated in Poly(4-hydroxystyrene) Film upon Exposure to 75 keV Electron Beam2005
- 著者名/発表者名
  T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
- NAID
  10016856520
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B23
  
  ページ: 2716-2720
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Synchronization of femtosecond UV-IR laser with electron beam for pulse radiolysis studies2005
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, S.Kashiwagi, K.Okamoto, G.Isoyama, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A 546
  
  ページ: 627-633
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Basic Aspects of Acid Generation Process in Chemically Amplified Electron Beam Resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology 18
  
  ページ: 471-474
- NAID
  130004464438
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Dependence of Acid Yield on Acid Generator in Chemically Amplified Resist for Post-Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  A. Nakano, K. Okamoto, Y. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, H. Nemoto
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 44 ページ: 5832-5835
- NAID
  10016678348
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol B23
  
  ページ: 2716-2720
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H., Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B23
  
  ページ: 2716-2720
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reaction Mechanisms of Brominated Chemically Amplified Resists2005
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 44
- NAID
  10016590890
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Synchronization of femtosecond UV-IR laser with electron beam for pulse radiolysis studies2005
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  Nucl.Instrum.Meth. A546
  
  ページ: 627-633
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Basic Aspects of Acid Generation Process in Chemically Amplified Electron Beam Resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, Seiichi Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 18
  
  ページ: 471-474
- NAID
  130004464438
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Multi spur effect on decay kinetics of geminate ion recombination using Monte Carlo technique2005
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl.Instrum.Meth. B234
  
  ページ: 285-290
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study on acid generation from polymer2005
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 23 ページ: 2728-2732
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Synchronization of femtosecond UV-IR laser with electron beam for pulse radiolysis studies2005
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  Nucl.Instrum.Meth. A546
  
  ページ: 627-633
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Nanopatterning of polyfluorene derivative using electron-beam lithography2005
- 著者名/発表者名
  Y.Doi, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B23
  
  ページ: 2051-2055
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Synchronization of femtosecond UV-IR laser with electron beam for pulse radiolysis studies2005
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, S.Kashiwagi, K.Okamoto, G.Isoyama, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl.Instrum.Meth.A 546
  
  ページ: 627-633
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Adjacent Effect on Positive Charge Transfer from Radical Cation of n-Dodecane to Scavenger Studied by Picosecond Pulse Radioly sis, Statistical Model, and Monte Carlo Simulation2004
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Physics and Chemistry A 108
  
  ページ: 1475-1481
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Modeling and simulation of chemically amplified electron beam, x-ray, and EUV resist processes2004
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B22
  
  ページ: 3489-3492
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Effects of Ester Groups on Proton Generation and Diffusion in Polymethacrylate Matrices2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 3981-3983
- NAID
  10013276420
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Effects of Ester Groups on Proton Generation and Diffusion in Polymethacrylate Matrices2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3981-3983
- NAID
  10013276420
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Pulse Radiolysis Study on Proton and Charge Transfer Reactions in Solid Poly(methyl methacrylate)2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 4363-4367
- NAID
  10013317792
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Effects of Ester Groups on Proton Generation and Diffusion in Polymethacrylate Matrices2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tawaga
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3981-3983
- NAID
  10013276420
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Adjacent effect on positive charge transfer from radical cation of n-dodecane to scavenger studied by picosecond pulse radiolysis, statistical model, and Monte Carlo simulation.2004
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem., A 108
  
  ページ: 1475-1481
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Modeling and simulation of chemically amplified electron beam, x-ray, and EUV resist processes2004
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B22
  
  ページ: 3489-3492
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Polymer screening method for chemically amplified electron beam and X-ray resists2004
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3971-3973
- NAID
  10013276391
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Modeling and simulation of chemically amplified electron beam, x-ray, and EUV resist processes2004
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B22
  
  ページ: 3489-3492
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Effects of Ester Groups on Proton Generation and Diffusion in Polymethacrylate Matrices2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tawaga
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 3981-3983
- NAID
  10013276420
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Pulse Radiolysis Study on Proton and Charge Transfer Reactions in Solid Poly(methyl methacrylate)2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 4363-4367
- NAID
  10013317792
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Modeling and simulation of chemically amplified electron beam, x-ray, and EUV resist processes2004
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science Technology B 22
  
  ページ: 3489-3492
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Polymer Screening Method for Chemically Amplified Electron Beam and X-Ray Resists2004
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3971-3973
- NAID
  10013276391
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Pulse Radiolysis Study on Proton and Charge Transfer Reactions in Solid Poly(methyl methacrylate)2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tawaga
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 4363-4367
- NAID
  10013317792
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Polymer Screening Method for Chemically Amplified Electron Beam and X-Ray Resists2004
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3971-3973
- NAID
  10013276391
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Adjacent Effect on Positive Charge Transfer from Radical Cation of n-Dodecane to Scavenger Studied by Picosecond Pulse Radiolysis, Statistical Model, and Monte Carlo Simulation2004
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem. A108
  
  ページ: 1475-1481
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Electron Dynamics in Chemically Amplified Resists2004
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Yamamoto, A.Nakano, A.Saeki, K.Okamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17
  
  ページ: 733-738
- NAID
  40006276572
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16760691
[雑誌論文] Precise Control of Nanowire Formation Based on Polysilane for Photoelectronic Device Application2004
- 著者名/発表者名
  S.Tsukuda, S.Seki, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 3810-3814
- NAID
  10013275865
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Effects of Ester Groups on Proton Generation and Diffusion in Polymethacrylate Matrices2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tawaga
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3981-3983
- NAID
  10013276420
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Polymer Screening Method for Chemically Amplified Electron Beam and X-Ray Resists2004
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, A.Nakano, K.Okamo to, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3971-3973
- NAID
  10013276391
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Precise Control of Nanowire Formation Based on Polysilane for Photoelectronic Device Application2004
- 著者名/発表者名
  S.Tsukuda, S.Seki, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3810-3814
- NAID
  10013275865
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Adjacent Effect on Positive Charge Transfer from Radical Cation of n-Dodecane to Scavenger Studied by Picosecond Pulse Radiolysis, Statistical Model, and Monte Carlo Simulation2004
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem. A108
  
  ページ: 1475-1481
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Pulse Radiolysis Study on Proton and Charge Transfer Reactions in Solid Poly(methyl methacrylate)2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tawaga
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 4363-4367
- NAID
  10013317792
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Precise control of nanowire formation based on polysilane for photoelectronic device application2004
- 著者名/発表者名
  S.Tsukuda, S.Seki, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa, M.Sugimoto, A.Idesaki, S.Tanaka
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3810-3814
- NAID
  10013275865
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Effects of ester groups on proton generation and diffusion in polymethacrylate matrices.2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3981-3983
- NAID
  10013276420
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Precise Control of Nanowire Formation Based on Polysilane for Photoelectronic Device Application2004
- 著者名/発表者名
  S.Tsukuda, S.Seki, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 3810-3814
- NAID
  10013275865
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Polymer Screening Method for Chemically Amplified Electron Beam and X-Ray Resists2004
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 3971-3973
- NAID
  10013276391
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Pulse Radiolysis Study on Proton and Charge Transfer Reactions in Solid Poly(methyl methacrylate)2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tawaga
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 4363-4367
- NAID
  10013317792
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Pulse radiolysis study on proton and charge transfer reactions in solid poly(methyl methacrylate).2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 4363-4367
- NAID
  10013317792
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Adjacent Effect on Positive Charge Transfer from Radical Cation of n-Dodecane to Scavenger Studied by Picosecond Pulse Radiolysis, Statistical Model, and Monte Carlo Simulation2004
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem. A108
  
  ページ: 1475-1481
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Adjacent Effect on Positive Charge Transfer from Radical Cation of n-Dodecane to Scavenger Studied by Picosecond Pulse Radiolysis, Statistical Model, and Monte Carlo Simulation2004
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem. A108
  
  ページ: 1475-1481
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Precise Control of Nanowire Formation Based on Polysilane for Photoelectronic Device Application2004
- 著者名/発表者名
  S.Tsukuda, S.Seki, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3810-3814
- NAID
  10013275865
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Modeling and simulation of chemically amplified electron beam, x-ray, and EUV resist processes.2004
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol., B 22
  
  ページ: 3489-3492
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Adjacent Effect on Positive Charge Transfer from Radical Cation of n-Dodecane to Scavenger Studied by Picosecond Pulse Radiolysis, Statistical Model, and Monte Carlo Simulation2003
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Physics and Chemistry A 108
  
  ページ: 1475-1481
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Subpicosecond Pulse Radiolysis Study of Geminate Ion Recombination in Liquid Benzene2003
- 著者名/発表者名
  K.Okamoto, A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Chemical Letters 32
  
  ページ: 834-835
- NAID
  10012819332
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[学会発表] Chemical information extraction from scanning electron microscopy images on the basis of image recognition2023
- 著者名/発表者名
  Yuqing Jin, Takahiro Kozawa, Kota Aoki, Tomoya Nakamura, Yasushi Makihara, and Yasushi Yagi
- 学会等名
  IEUVI Resist TWG meeting
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Chemical information extraction from scanning electron microscopy images on the basis of image recognition2023
- 著者名/発表者名
  Yuqing Jin, Takahiro Kozawa, Kota Aoki, Tomoya Nakamura, Yasushi Makihara, and Yasushi Yagi
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography + Patterning
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Current status and prospect of extreme ultraviolet resists2023
- 著者名/発表者名
  Takahiro Kozawa
- 学会等名
  7th EUV-FEL Workshop
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Bayesian optimization-based estimation of effective reaction radius of chemically amplified resist in acid catalyzed deprotection reaction2022
- 著者名/発表者名
  Yuqing Jin, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  SPIE Photomask Technology + EUV Lithography
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Study of RLS trade-off mitigation utilizing an organotin-containing chemically amplified resist for high sensitivity patterning2022
- 著者名/発表者名
  Satoshi Enomoto, Kohei Machida, Michiya Naito, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  SPIE Photomask Technology + EUV Lithography
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Photoresist stochastic defect generation depending on alkalibased developer’s alkyl chain length and concentration2022
- 著者名/発表者名
  Masahiko Harumoto, Andreia Figueiredo dos Santos, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani, and Takahiro Kozawa
- 学会等名
  MNC2022
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Effect of surface free energy of organic underlayer on dissolution kinetics of poly(4-hydroxystyrene) film in tetramethylammonium hydroxide aqueous developer2022
- 著者名/発表者名
  Yuqing Jin, Tomoe Otsuka, Naoki Tanaka, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  SPIE Photomask Technology + EUV Lithography
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Application of machine learning to development of chemically amplified resist materials and processes2022
- 著者名/発表者名
  Takahiro Kozawa
- 学会等名
  The 39th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Defect Risks in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2022
- 著者名/発表者名
  Takahiro Kozawa
- 学会等名
  SPIE Photomask Technology + EUV Lithography
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Mechanism of electron beam resists2021
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  Photomask Japan
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Stochastic Effects in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2021
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  SPIE Photomask Technology and the Extreme Ultraviolet Lithography
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Resist thickness dependence of latent images in chemically amplified resists used for electron beam lithography2021
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and T. Tamura
- 学会等名
  38th Int. Conf. Photopolymer Science and Technology
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] EUVL Stochastics Symposium2021
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  MNC
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Regression analysis of photodecomposable quencher concentration effects on chemical gradient in chemically amplified extreme ultraviolet resist processes2021
- 著者名/発表者名
  Kazuki Azumagawa and Takahiro Kozawa
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Machine Learning of Stochastic Effects in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2020
- 著者名/発表者名
  Kazuki Azumagawa and Takahiro Kozawa
- 学会等名
  MNC2020
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Study on dependence of transient swelling layer formation on molecular weight and dispersion of backbone polymer of chemically amplified EUV resists2020
- 著者名/発表者名
  Takahiro Kozawa, Kyoko Watanabe, Kyoko Matsuoka, Naoki Tanaka, Kazuki Azumagawa, Takuya Ikeda, Yoshitaka Komuro and Daisuke Kawana
- 学会等名
  SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Estimation of Electron Affinity of Photoacid Generators: Density Functional TheoryCalculations Using Static and Dynamic Models2020
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto and Takahiro Kozawa
- 学会等名
  MNC2020
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Study on Primary Process of Beam-Induced Reaction of Metal Resist Ligands2020
- 著者名/発表者名
  Kengo Ikeuchi, Tomoe Otsuka, Yusa Muroya, Takahiro Kozawa, Takuya Ikeda, Yoshitaka Komuro and Daisuke Kawana
- 学会等名
  MNC2020
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Relationship between Resolution Blur and Stochastic Defect of Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2019
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, J. J. Santillan, and T. Itani
- 学会等名
  The 36th International Conference of Photopolymer Science and Technology (Makuhari Messe, Chiba, Japan, June 24-27, 2019)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Radiation chemistry in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2019
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  2nd ELENA Conf. (Leuven, Belgium, Sep. 4-6, 2019),
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Analysis of line-and-space patterns of ZrO2 nanoparticle resist on the basis of EUV sensitization mechanism2019
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, T. Yamada, Y. Muroya, J. J. Santillan, and T. Itani
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Theoretical study of line edge roughness and stochastic defect generation2019
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  SPIE Photomask Technology + EUV Lithography (Monterey, California, Sep. 16-19, 2019)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] パルスラジオリシスによるフェニルスルホン化合物の放射線化学反応2018
- 著者名/発表者名
  岡本一将, 河合俊平, 山本洋揮, 古澤孝弘
- 学会等名
  日本原子力学会２０１８年春の大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Stochasticity in EUV lithography2018
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, J. J. Santillan, and T. Itani
- 学会等名
  16th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Pattern formation mechanism of zirconia nanoparticle resist used for extreme-ultraviolet lithography2018
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, T. Yamada, S. Ishihara, H. Yamamoto, Y. Muroya, J. J. Santillan, and T. Itani
- 学会等名
  International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] Resist material options for extreme ultraviolet lithography2017
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  Kickoff Meeting (JSPS Symposium) for the ZIAM/GBB and ISIR/IPR collaboration
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] ポリスチレンのフェニルトリメトキシシラン溶液のパルスラジオリシス2017
- 著者名/発表者名
  堀成生, 岡本一将, 山本洋揮, 古澤孝弘, 藤吉亮子, 梅垣菊男
- 学会等名
  第60回放射線化学討論会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] 化学増幅型レジストへのスルホン化合物の添加効果2017
- 著者名/発表者名
  岡本一将, 藤井槙哉, 山本洋揮, 古澤孝弘, 井谷俊郎
- 学会等名
  第６４回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  パシフィコ横浜（神奈川県・横浜市）
- 年月日
  2017-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] 次世代半導体の微細化限界の打破は可能か？2017
- 著者名/発表者名
  古澤孝弘
- 学会等名
  第11回　産研ざっくばらんトーク
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] 光・ビーム科学と計算機科学の融合による超微細加工材料開発2017
- 著者名/発表者名
  古澤孝弘
- 学会等名
  第22回光エレクトロニクスフォーラム
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV by adding acid generation promoters2016
- 著者名/発表者名
  Shinya Fujii, Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Toshiro Itani
- 学会等名
  29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2016)
- 発表場所
  ANA Crowne Plaza Kyoto (京都府・京都市)
- 年月日
  2016-11-08
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Synthesis and Resist Properties of Calixarene Polymers with Pendant Haloalkyl Groups2016
- 著者名/発表者名
  H. Kudo, H. Ogawa, H. Yamamoto, and T. Kozawa
- 学会等名
  The 33rd International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba, Japan
- 年月日
  2016-06-22
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography2016
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, H. Kudo, and T. Kozawa
- 学会等名
  2016 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  CA, USA
- 年月日
  2016-06-13
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Challenges in sub-10 nm fabrication using EUV lithography2016
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, J.J. Santillan, and T. Itani
- 学会等名
  14th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
- 発表場所
  Hersbruck, Germany
- 年月日
  2016-09-22
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] 添加剤を用いた酸生成促進によるEUV 用化学増幅型レジストの感度向上2016
- 著者名/発表者名
  藤井槙哉、岡本一将、山本洋揮、古澤孝弘、井谷俊郎
- 学会等名
  第59回放射線化学討論会
- 発表場所
  量子科学技術研究開発機構　高崎量子応用研究所(群馬県・高崎市)
- 年月日
  2016-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Radiation chemistry of fluorinated polymers for Extreme-ultraviolet resist2015
- 著者名/発表者名
  N. Nomura, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市）
- 年月日
  2015-11-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Dynamics of radical ions of fluorinated polymer for Extreme Ultraviolet (EUV) lithography2015
- 著者名/発表者名
  N. Nomura, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  Photomask Japan 2015
- 発表場所
  パシフィコ横浜（神奈川県横浜市）
- 年月日
  2015-04-20
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Dissolution Dynamics of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography Studied by Quartz Crystal Microbalance2015
- 著者名/発表者名
  M. Mitsuyasu, H. Yamamoto, and T. Kozawa
- 学会等名
  2015 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  米国ハワイ
- 年月日
  2015-07-15
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Resist material options for extreme ultraviolet lithography2015
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  MNE2015
- 発表場所
  オランダ
- 年月日
  2015-09-21
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Pulse radiolysis in concentrated poly(4-hydroxystyrene) solution: Acid generation dynamics in EUV and electron-beam chemically amplified resist2015
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Ishida, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市）
- 年月日
  2015-11-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Radiation-induced reaction of fluorinated polymers and related compounds for extreme-ultraviolet lithography2015
- 著者名/発表者名
  N. Nomura, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  Pacifichem 2015
- 発表場所
  Hawii Convention Center(Honolulu, Hawaii, USA)
- 年月日
  2015-12-15
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] パルスラジオリシス法によるフッ素樹脂の放射線化学反応の解明2015
- 著者名/発表者名
  野村直矢、岡本一将、藤吉亮子、梅垣菊男、山本洋揮、古澤孝弘
- 学会等名
  日本原子力学会２０１５年秋の大会
- 発表場所
  静岡大学静岡キャンパス（静岡県静岡市）
- 年月日
  2015-09-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Pulse radiolysis study of resist polymers with and without photoacid generator2015
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Ishida, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  Pacifichem 2015
- 発表場所
  Hawii Convention Center(Honolulu, Hawaii, USA)
- 年月日
  2015-12-15
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] リソグラフィにおけるラインエッジラフネス生成機構と極限解像度2014
- 著者名/発表者名
  古澤孝弘
- 学会等名
  日本学術振興会第１３２委員会第２０９回研究会
- 発表場所
  東京
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Nanochemistry in Chemically Amplified Resists Used for Extreme Ultraviolet Lithography2013
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  The 57th International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology, and Nanofabrication
- 発表場所
  Nashville, Tennessee, USA
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Stochastic effects in chemically amplified resists2013
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  11th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
- 発表場所
  Hersbruck, Germany
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Resist properties required for 6.67 nm extreme ultraviolet lithography2012
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  10th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
- 発表場所
  Hersbruck, Germany
- 年月日
  2012-09-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[学会発表] Status and Challenge of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography2012
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  2012 International Workshop on EUVL
- 発表場所
  Maui, Hawaii, USA
- 年月日
  2012-06-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[学会発表] Reaction of thermalized electrons in resist materials2011
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa
- 学会等名
  14th International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  Warsaw, Poland(招待講演)
- 年月日
  2011-08-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[学会発表] Theoretical study of 11-nm-fabrication using 6.67-nm EUV lithography2011
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, A.Erdmann
- 学会等名
  9TH Fraunhofer IISB Lithography simulation Workshop
- 発表場所
  Hersbruck, Germany
- 年月日
  2011-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[学会発表] Reaction of thermalized electrons in resist materials2011
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  14th International Congress of Radiation Research(招待講演)
- 発表場所
  Warsaw, Poland
- 年月日
  2011-08-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[学会発表] Theoretical study of 11-nm-fabrication using 6.67-nm EUV lithography2011
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, and A. Erdmann
- 学会等名
  9th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
- 発表場所
  Hersbruck, Germany
- 年月日
  2011-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[学会発表] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene) Generated in Thin Film upon Exposure to Electron Beam2010
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, and S. Tagawa
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2010-02-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[学会発表] Use Efficiency of Photon, Electron, and Proton in Chemically Amplified Resists-Resist Design for Cost Effective Lithography2010
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  小倉(福岡)
- 年月日
  2010-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[学会発表] Analysis of Chemical Reactions Induced in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2010
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Oizumi, T. Itani, and S. Tagawa
- 学会等名
  European Symposium of Photopolymer Science
- 発表場所
  Mulhouse, France
- 年月日
  2010-11-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[学会発表] Analysis of Chemical Reactions Induced in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2010
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Oizumi, T.Itani, S.Tagawa
- 学会等名
  European Symposium of Photopolymer Science
- 発表場所
  Mulhouse(France)
- 年月日
  2010-11-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[学会発表] Use Efficiency of Photon, Electron, and Proton in Chemically Amplified Resists -Resist Design for Cost Effective Lithography2010
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa
- 学会等名
  23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  小倉(福岡)
- 年月日
  2010-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[学会発表] Sensitization mechanisms of chemically amplified resists and resist design for 22 nm node2009
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and S. Tagawa
- 学会等名
  2009 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Oahu, Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Development Status and Future Prospect of Extreme Ultraviolet Resists2009
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa
- 学会等名
  International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Honolulu, Hawaii, USA
- 年月日
  2009-07-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[学会発表] Modeling and simulation of chemically amplified resists for EUV lithography2009
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and S. Tagawa
- 学会等名
  7th Fraunhofer IISB Lithography Simulation Workshop
- 発表場所
  Hersbruck, Germany
- 年月日
  2009-09-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[学会発表] Effect of molecular structures of acid generators on acid generation in chemically amplified resists upon exposure to 75 keV electron beam2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Dependence of Acid Generation Efficiency on Molecular Structure and Concentration of Acid Generator in Chemically Amplified EUV Resist, SPIE Advanced Lithography2008
- 著者名/発表者名
  R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa
- 学会等名
  San Jose
- 発表場所
  California, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-Hydroxystyrene)and its Copolymer2008
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Dynamics of Radical Cations of Resist Model Compounds2008
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
- 学会等名
  2nd Asia-Pacific Symposium on Radiation Chemistry
- 発表場所
  Waseda University
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of molecular structures of acid generators on acid generation in chemically amplified resists upon exposure to 75 keV electron beam2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- 年月日
  2008-10-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[学会発表] Horie, Effect of acid generator structure on its depth distribution in chemically amplified resist films2008
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, and K
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on Reactivity of Halogenated Resist Polymer with Low-Energy Electrons2008
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Mimura, H. Yukawa, and J. Onodera
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Acid-base equilibrium in chemically amplified resist, SPIE Advanced Lithography2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 学会等名
  San Jose
- 発表場所
  California, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on acid generation of acid generators in chemically amplified resists for electron beam2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 学会等名
  International Workshop on Molecular Information and Dynamics 2008
- 発表場所
  Taipei, Taiwan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of acid generator structure on its depth distribution in chemically amplified resist films2008
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- 年月日
  2008-10-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Pico-and subpico-second pulse radiolysis based on L-band linac with femtosecond white light continuum2007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, and S. Tagawa (invited)
- 学会等名
  The 7th International Symposium on Advanced Science Research
- 発表場所
  Tokai, Ibaraki, Japan
- 年月日
  2007-12-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Nanoscale Distribution of Intermediates in Resist Materials for Next Generation Lithography2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa
- 学会等名
  ASR Symposium
- 発表場所
  茨城県那珂郡東海村
- 年月日
  2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360428
[学会発表] Nanoscale Distribution of Intermediates in Resist Materials for Next Generation Lithography
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, and S. Tagawa
- 学会等名
  ASR Symposium
- 発表場所
  Ibaraki, Japan
- 年月日
  2007-11-06 – 2007-11-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Line edge roughness in chemically amplified resist of electron beam lithography
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa and H. B. Cao
- 学会等名
  50th EIPBN
- 発表場所
  Baltimore, Maryland, USA
- 年月日
  2006-05-30 – 2006-06-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Acid distribution in chemically amplified extreme ultraviolet resist
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, M. J. Leeson
- 学会等名
  The fifty-first international conference on electron, ion, and photon beam technology and nanofabrication (51st EIPBN)
- 発表場所
  Denver, Colorado, USA
- 年月日
  2007-05-29 – 2007-06-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Single-Component Chemically Amplified Resist Based on Dehalogenation of Polymer
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  SPIE Advanced Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2007-02-25 – 2007-03-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on Dissolution Behavior of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography
- 著者名/発表者名
  M. Mitsuyasu, H. Yamamoto and T. Kozawa
- 学会等名
  27th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- 年月日
  2014-11-04 – 2014-11-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Effects of rate constant for deprotection reaction on latent image formation in chemically amplified EUV resists
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, and T. Itani
- 学会等名
  Microprocess and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kyoto, Japan
- 年月日
  2007-11-05 – 2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of Acid Diffusion and Polymer Structure on Line Edge Roughness
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.
- 発表場所
  Kamakura, Japan
- 年月日
  2006-10-25 – 2006-10-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on photochemical analysis system for EUV lithography
- 著者名/発表者名
  A. Sekiguchi, Y. Kono, M. Kadoi, Y. Minami, T. Kozawa, S. Tagawa, D. Gustafson, P. Plackborow
- 学会等名
  SPIE Advanced Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2007-02-25 – 2007-03-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Pulse radiolysis of polystyrene and derivatives
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa
- 学会等名
  13th International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  San Francisco, California, USA
- 年月日
  2007-07-07 – 2007-07-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effects of activation energy for deprotection reaction on latent image contrast
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
- 学会等名
  2007 International EUVL Symposium
- 発表場所
  Sapporo, Japan
- 年月日
  2007-10-28 – 2007-10-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Acid generation mechanism in anion bound chemically amplified resists used for extreme-ultraviolet lithography
- 著者名/発表者名
  Y. Komuro, H. Yamamoto, K. Kobayashi, K. Ohomori, and T. Kozawa
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2015-02-22 – 2015-02-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Proton Dynamics and Amines in Chemically Amplified Resist
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
- 学会等名
  Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.
- 発表場所
  Kamakura, Japan
- 年月日
  2006-10-25 – 2006-10-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Fundamental Study on Dissolution Behavior of Chemically Amplified Resist for EUV Lithography
- 著者名/発表者名
  M. Mitsuyasu, H. Yamamoto and T. Kozawa
- 学会等名
  Photomask Japan 2014
- 発表場所
  Yokohama, Kanagawa, Japan
- 年月日
  2014-04-15 – 2014-04-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Depth profile of acid generator distribution in chemically amplified resists
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, S. Tagawa, R. Takasu, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
- 学会等名
  Microprocess and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kyoto, Japan
- 年月日
  2007-11-05 – 2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of Fluorine Atom on Acid Generation in Chemically Amplified EUV Resist
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera
- 学会等名
  Microprocess and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kyoto, Japan
- 年月日
  2007-11-05 – 2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of Fluorine Atom on Acid Generation in Chemically Amplified EUV Resist
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa H. Yukawa, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  2007 International EUVL Symposium
- 発表場所
  Sapporo, Japan
- 年月日
  2007-10-28 – 2007-10-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] High precision measurement of higher diffraction-order contamination in monochromatized soft X-ray by using a compact transmission-grating spectrometer
- 著者名/発表者名
  K. Fukui, T. Sakai, T. Hatsui, N. Kosugi, Y. Hamamura, K. Okamoto, Y. Matsui, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa
- 学会等名
  International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics 15th
- 発表場所
  Berlin, Germany
- 年月日
  2007-06-29 – 2007-07-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Difference between initial distributions of proton and counter anion in chemically amplified electron-beam resist
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki and S. Tagawa
- 学会等名
  31st Int. Symp. Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2006-02-19 – 2006-02-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Dependence of Absorption Coefficient and Acid Generation Efficiency on Acid Generator Concentration in Chemically Amplified EUV Resist
- 著者名/発表者名
  R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai and T. Shimokawa
- 学会等名
  Microprocess and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kyoto, Japan
- 年月日
  2007-11-05 – 2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Image Contrast Slope and Line Edge Roughness of Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
- 学会等名
  The fifty-first international conference on electron, ion, and photon beam technology and nanofabrication (51st EIPBN)
- 発表場所
  Denver, Colorado, USA
- 年月日
  2007-05-29 – 2007-06-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Analysis of Acid Yield Generated in Chemically Amplified Electron Beam Resist
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, T. Shigaki, K. Okamoto, A. Saeki and S. Tagawa
- 学会等名
  50th EIPBN
- 発表場所
  Baltimore, Maryland, USA
- 年月日
  2006-05-30 – 2006-06-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on dynamics of radical ions of polystyrenes by pulse radiolysis
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa
- 学会等名
  13th International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  San Francisco, California, USA
- 年月日
  2007-06-07 – 2007-06-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effects of low-molecular weight resist components on dissolution behavior of chemically-amplified resists for extreme ultraviolet lithography studied by quartz crystal microbalance
- 著者名/発表者名
  M. Masaki, H. Yamamoto, and T. Kozawa
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2015-02-22 – 2015-02-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Study on the Reaction of Acid Generators with Epithermal Electrons
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 学会等名
  Microprocess and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kyoto, Japan
- 年月日
  2007-11-05 – 2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Development and performance of quasi-free standing transmission-grating for soft X-ray emission spectrometer
- 著者名/発表者名
  T. Hatsui, K. Okamoto, Y. Matsui, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa, Y. Hamamura, N. Kosugi
- 学会等名
  International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics 15th
- 発表場所
  Berlin, Germany
- 年月日
  2007-06-29 – 2007-07-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] The reaction mechanism of poly[4-hydroxystyrene-co-4-(1, 1, 1, 3, 3, 3-hexafluoro-2- hydroxypropyl)-styrene]
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  31st Int. Symp. Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2006-02-19 – 2006-02-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014

1. 関修平 (30273709)

共同の研究課題数: 5件

共同の研究成果数: 14件
2. 田川精一 (80011203)

共同の研究課題数: 5件

共同の研究成果数: 129件
3. 吉田陽一 (50210729)

共同の研究課題数: 4件

共同の研究成果数: 14件
4. 佐伯昭紀 (10362625)

共同の研究課題数: 4件

共同の研究成果数: 39件
5. 山本洋揮 (00516958)

共同の研究課題数: 4件

共同の研究成果数: 44件
6. 岡本一将 (10437353)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 55件
7. 小林一雄 (30116032)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 4件
8. 室屋裕佐 (40334320)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 5件
9. 楊金峰 (90362631)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 5件
10. 柴田裕実 (30216014)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
11. LEEMANS Wim

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
12. 小方厚 (60023727)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
13. 川久保忠通 (70044774)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
14. 中西弘 (00044769)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
15. 中島一久 (80164177)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
16. 上坂充 (30232739)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
17. 広石大介 (20199110)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
18. 勝村庸介 (70111466)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
19. 三木美弥子 (10167661)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
20. 奥田修一 (00142175)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
21. 誉田義英 (40209333)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
22. 丑田公規 (60183018)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
23. 砂川武義 (60329456)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
24. 大沼正人 (90354208)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
25. CORBUNOV Leo

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
26. ANDREEV Niko

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
27. SIDERS Craig

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
28. DOWNER Miche

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
29. KIRSANOV Vic

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
30. FALCONE Roge

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
31. TAJIMA Toshi

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
32. ILAN Ben-Zvi

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
33. MATHIEUSSENT Gilles

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
34. CROS Brigitte

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
35. MILCHEBERG Howard

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
36. CHATTOPADHVAV Swapon

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
37. MOUROU Gerald

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
38. WURTELE Jonathan

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
39. WHITTUM David

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
40. CHEN Pisin

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
41. KATSOULEAS Tom

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
42. GORBUNOV Leo

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
43. MOUROU Geral

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
44. MILCHBERG Ho

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
45. WURTELE Jona

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
46. CROS Brigitt

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
47. WHITTUM Davi

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
48. SHATOPADHYAY シャボン

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
49. FISHER David

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
50. PERRY Mike

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
51. KATSOULEAS T

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
52. DANGOR A.E.

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
53. GORUBUNOV Le

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
54. SIDERS Claig

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
55. MATHIEUSSENT ジル

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
56. 田島俊樹

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
57. ヂンタンフン

共同の研究課題数: 0件

共同の研究成果数: 1件
58. 酒巻大輔

共同の研究課題数: 0件

共同の研究成果数: 1件

古澤 孝弘 KOZAWA Takahiro

古沢 孝弘 フルザワ タカヒロ

小澤 孝弘 コザワ タカヒロ

研究課題

研究成果

共同研究者

電離放射線用金属含有レジストの反応機構の解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

量子ビーム科学とデータ科学の融合によるシングルナノ材料開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

量子ビーム複合利用による最先端微細加工材料のナノ化学の研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

量子ビーム複合利用によるナノ空間反応および反応場の研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

凝縮相における熱化電子の大きさの研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

極端紫外光による超微細加工実現へ向けた学術基盤確立のためのナノ空間反応研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

フェムト秒パルスラジオリシスによる極限ナノビームプロセスの創生研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

サブピコ秒パルスラジオリシス法によるナノリソグラフィ材料の反応機構の解明と開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

古澤孝弘 KOZAWA Takahiro

古沢孝弘フルザワタカヒロ

小澤孝弘コザワタカヒロ