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芳井 熊安  YOSHII Kumayasu

ORCIDORCID連携する *注記
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吉井 熊安  YOSHII Kumayasu

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研究者番号 30029152
外部サイト
所属 (現在) 2025年度: 大阪大学, その他部局等, 名誉教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1998年度 – 2004年度: 大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授
1998年度: 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授
1995年度 – 1997年度: 大阪大学, 工学部, 教授
1990年度 – 1992年度: 大阪大学, 工学部, 教授
1989年度: 大阪大学, 工学部, 助教授
1986年度 – 1987年度: 大阪大学, 工学部, 助教授
審査区分/研究分野
研究代表者
機械工作・生産工学 / 金属材料 / 応用物性・結晶工学
研究代表者以外
機械工作・生産工学 / 金属材料
キーワード
研究代表者
High-rate deposition / Amorphous SiC / Atmospheric pressure plasma CVD / 超高速成膜 / アモルファスSiC / 大気圧プラズマCVD / atom interferometer / atom optics / atom lithography / nanostructure … もっと見る / magnetic quadrupole lens / laser cooling / velocity spectrometer / monochromatic atomic beam / 単一速度原子ビーム / ナノストラクチャー / 原子干渉計 / 原子光学 / アトムリソグラフィー / ナノ構造 / 高磁気勾配磁気回路 / レーザー冷却 / 原子ビーム速度分光装置 / 単色原子ビーム / atomic hydrogen radicals / RF sputtering method / polycrystalline silicon film / low temperature growth / 多結晶Si薄膜 / 高周波スパッタ蒸着法 / 低温成膜 / 多結晶 / Si薄膜 / photoluminescence / strained quantum well / phase locked epitaxy / semiconductor laser / 位相制御エピタキシ- / 半導体レ-ザ / フォトルミネッセンス / 歪み量子井戸 / 位相制御エピタキシー / 半導体レーザ / Al_xGa_<1-x>N / エピタキシャル成長 / PA-MBE / 紫外光 / レーザ / AlN / 窒化物半導体 … もっと見る
研究代表者以外
laser cooling / レーザー冷却 / EEM / Interfacial reactions of Al / Atomic structures of amorphous silicon carbide films / Ion beam sputtering device / metal multiple layered films / Ceramics / アモルファス炭化ケイ素 / 界面反応 / アモルファス薄膜界面 / 金属 / 多層薄膜 / イオンビームスパッター蒸着 / 非晶質炭化ケイ素多層膜の界面反応 / A1 / 非晶質炭化ケイ素薄膜の原理的構造 / イオンビームスパック装置 / 金属多層薄膜 / セラミックス / atom interferometer / atom optics / atom lithography / nanostructure / magnetic quadruple lens / velocity spectrometer / monochromatic atomic beam / 速度圧縮 / 中性原子速度分光 / 中性原子ビーム / 原子波干渉 / 原子干渉磁気回路 / 単色原子ビーム / 原子光学 / stimulated light force / ECR plasma / metastable lifetime / laser collimation / neutral F radical beam / NFィイD23ィエD2 plasma / anisotropic dry etching / フッ素ラジカル / ECRラジカル源 / Fラジカルビーム / 半導体ドライエッチング / 誘導放射圧 / ECRプラズマ / 準安定寿命 / レーザーコリメーション / 中性Fラジカルビーム / NF_3プラズマ / 異方性ドライエッチング / Ultra clean technology / First-principles molecular dynamics simulation / Electrochemical machining in ultrapure water / Atmospheric pressure plasma CVD / Plasma CVM / Ultra precision machining / Perfect surfaces / STM / 第一原理分子動力学シュミレーション / 超純粋電解加工 / ウルトラクリーンテクノロジー / 第一原理分子動力学シミュレーション / 超純水電解加工 / 大気圧プラズマCVD / プラズマCVM / 超精密加工 / 完全表面 / liquid phase crystal growth / Si sheet / dislocation-free single crystal Si / 無転移単結晶Si / 液相成長 / Siシート / 無転位単結晶Si / Quantum-size effect / Heterostructure energy-band diagram / Optical absorption / X-ray small angle scattering / Amorphous semiconductor superlattices / Amorphous semiconductor films / 真空紫外光電子分光 / 結晶化 / 量子サイズ効果 / ヘテロ接合界面エネルギ-バンド図 / 光学吸収 / X線小角散乱 / アモルファス半導体超格子 / アモルファス半導体薄膜 隠す
  • 研究課題

    (11件)
  • 共同研究者

    (10人)
  •  窒化物半導体による紫外光(UV)レーザへの発展研究代表者

    • 研究代表者
      芳井 熊安
    • 研究期間 (年度)
      2002 – 2004
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  高性能アモルファスシリコンカーバイド(SiC)の超高速成膜に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      芳井 熊安
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  原子波の干渉による超微細構造の作製と制御

    • 研究代表者
      安武 潔
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2001
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  単色原子ビームの生成とナノリソグラフィーへの応用研究代表者

    • 研究代表者
      芳井 熊安
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 2000
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  レーザ冷却法を用いた異方性ドライエッチングプロセスの開発

    • 研究代表者
      安武 潔
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  無転位単結晶Siシートの作製に関する研究

    • 研究代表者
      安武 潔
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 1998
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  完全表面の創成

    • 研究代表者
      森 勇藏 (森 勇蔵)
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 2002
    • 研究種目
      特別推進研究(COE)
    • 研究機関
      大阪大学
  •  高周波スパッタ蒸着法による多結晶半導体およびダイヤモンド薄膜の低温成膜研究代表者

    • 研究代表者
      芳井 熊安
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1996
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  PLE(位相制御エピタキシー)法を用いたInGaAs系歪み量子井戸レーザの開発研究代表者

    • 研究代表者
      芳井 熊安
    • 研究期間 (年度)
      1991 – 1992
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      金属材料
    • 研究機関
      大阪大学
  •  aーSi:H/aーSiC:H超格子薄膜の構造と物性に関する研究

    • 研究代表者
      川辺 秀昭
    • 研究期間 (年度)
      1989 – 1990
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      金属材料
    • 研究機関
      大阪大学
  •  セラミックスと金属との超格子薄膜による高強度延性セラミックス材の開発

    • 研究代表者
      川辺 秀昭
    • 研究期間 (年度)
      1986 – 1987
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      金属材料
    • 研究機関
      大阪大学
  • 1.  安武 潔 (80166503)
    共同の研究課題数: 11件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  垣内 弘章 (10233660)
    共同の研究課題数: 8件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  川辺 秀昭 (90028978)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  森 勇藏 (00029125)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  大参 宏昌 (00335382)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  広瀬 喜久治 (10073892)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  片岡 俊彦 (50029328)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  遠藤 勝義 (90152008)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 9.  森田 瑞穂 (50157905)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 10.  青野 正和 (10184053)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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