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成沢 忠  NARUSAWA Tadashi

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 30299383
その他のID
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1998年度 – 2003年度: 高知工科大学, 工学部, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者
表面界面物性
研究代表者以外
応用物性・結晶工学
キーワード
研究代表者
PIXE / RBS / ガラスキャピラリー / GaN / TLM / Ion beam process / High energy ion beam / Glass capillary / 収集イオンビーム / MEMS … もっと見る / リソグラフィー / ナノテクノロジー / 収束イオンビーム / イオンビーム加工 / 高エネルギーイオンビーム / ガラスキャピラリ / Tetrahedral amorphous C / X-ray lens / MeV ion scattering / Widegap semiconductors / Contact resistivity / semiconductor interface / Metal / イオン散乱法 / 水素検出 / ダイヤモンド / GaN(チッ化ガリウム) / 金属-半導体界面 / 局所蛍光X線分析 / 電子エミッター / テトラヘドラル・アモルファス・カーボン / カーボン系材料 / X線収束 / MeVイオン散乱法 / ワイドギャップ半導体 / 接触抵抗 / 半導体界面 / 金属 … もっと見る
研究代表者以外
レーザラマン分光 / 多結晶シリコン 隠す
  • 研究課題

    (3件)
  • 共同研究者

    (6人)
  •  nm-RBS装置の開発研究代表者

    • 研究代表者
      成沢 忠
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      高知工科大学
  •  金属/ワイドギャップ半導体界面の研究研究代表者

    • 研究代表者
      成沢 忠
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2000
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      高知工科大学
  •  レーザラマン分光法による多結晶シリコン形成機構の解明と粒径制御

    • 研究代表者
      河東田 隆
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      高知工科大学
  • 1.  河東田 隆 (90013739)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  西田 謙 (40299384)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  西永 頌 (10023128)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  八田 章光 (50243184)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  神戸 宏 (10299373)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  山本 哲也 (30320120)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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