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森 勇蔵  MORI Yuzo

ORCIDORCID連携する *注記
… 別表記

森 勇藏  MORI Yuzo

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研究者番号 00029125
その他のID
所属 (現在) 2025年度: 大阪大学, その他部局等, 名誉教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2006年度 – 2008年度: 大阪大学, 名誉教授
2005年度: 大阪大学, 工学研究科, 客員教授
2004年度: 大阪大学, 工学研究科, 名誉教授
2003年度 – 2004年度: 大阪大学, 大学院・工学研究科, 客員教授
2003年度: 大阪大学, 客員教授 … もっと見る
1999年度 – 2002年度: 大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授
1999年度: 大阪大学, 工学研究科, 助教授
1998年度: 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授
1998年度: 大阪大学, 工学研究科, 教授
1992年度 – 1997年度: 大阪大学, 工学部, 教授
1989年度 – 1990年度: 大阪大学, 工学部, 教授
1987年度: 大阪大学, 工学部, 教授
1986年度: 阪大, 工学部, 教授 隠す
審査区分/研究分野
研究代表者
機械工作・生産工学 / 機械工作 / 機械材料・材料力学 / 機械材料工学 / 生産工学・加工学
研究代表者以外
機械工作・生産工学 / 生産工学・加工学 / 機械工作・生産工学
キーワード
研究代表者
EEM / 大気圧プラズマ / プラズマCVD / プラズマCVM / ラジカル / 数値制御加工 / SOI / 第一原理分子動力学シュミレーション / 第一原理分子動力学シミュレーション / SiH_4 … もっと見る / ultra-fine particle / plasma CVD / 表面処理 / CVD / 表面改質 / 粉末粒子 / 薄膜 / LMIS / 高速回転電極 / Local Density of States / Lattice Defect / Photo-Reflectance Spectra / Surface characterization / Ultra-Precision Cutting / 局所状態密度 / 電子エネルギ状態 / 表面物性 / 格子欠陥 / 光反射率スペクトル / 加工表面評価 / 超精密切削 / planarization / First-principles molecular-dynamics simulation / catalytic reaction / hydrogen ion / hydroxyl ion / ultra precision machining / ultrapure water / electrochemical machining / 超清浄・超精密加工法 / イオン交換材料 / 触媒材料 / 表面酸化膜形成 / 超精密超清浄加工法 / 電解加工法 / 平坦化加工 / シリコン単結晶 / 触媒反応 / 水素イオン / 水酸イオン / 電解加工 / 超純水 / plane mirror / synchrotron radiation / numerical controlled / high-speed rotary electrode / radical / atmospheric pressure / plasma CVM / 薄膜化 / 平面ミラー / シンクロトロン放射光 / Ultra clean technology / First-principles molecular dynamics simulation / Electrochemical machining in ultrapure water / Atmospheric pressure plasma CVD / Plasma CVM / Ultra precision machining / Perfect surfaces / STM / 超純粋電解加工 / ウルトラクリーンテクノロジー / 超純水電解加工 / 大気圧プラズマCVD / 超精密加工 / 完全表面 / SF6 / Spatial resolution / Pulse modulation / Radical / Atmospheric plasma / 分解過程 / 六フッ化硫黄 / プラズマの局在化 / パルス変調 / ラジカル加工 / 高圧力プラズマ / atmospheric plasma / 微細粉末 / 超微粒子 / Low temperature deposition / Thin film / Silicon / Surface modification / Ion gun / 表面制御 / 薄膜用基板 / イオン照射 / シリコン薄膜 / 低温成膜 / シリコン / イオンガン / coating / surface preparation / マイクロ波プラズマ / コーティング / Plasma / Classification / Surface Modification / Powder Particle / RFプラズマ / コ-ティング / プラズマ / 分級 / Ultra-thin-film / Epitaxy / Ion Implantation / アルカリハライド / 超薄膜 / エピタキシ- / イオン注入 / リソグラフィー / 精密研磨 / プラズマ加工 / 石英ガラス / ローカルウエットエッチング / 平坦度 / ウエットエッチング / フォトマスク基板 / 液晶 / アモルファスシリコン / 高速成膜 … もっと見る
研究代表者以外
EEM / STS / STM / レーザ / 近接場 / 走査型近接場光学顕微鏡 / 非球面ミラー / 放射光 / シリコン / SPV / 数値制御加工 / 表面電子準位 / 超精密加工 / 分光 / 表面光起電力 / asymmetric aspheric figure / goniometers / normal vector / slope error / surface figuring / EUV / Synchrotron radiation optics / 基準面 / 法線ベクトル測定 / X線光学素子 / 大型ミラー / 非基準面 / 法線ベクトル計測 / 非球面形状 / 集効用ミラー / ナノメータ / 非球面 / スロープエラー / ゴニオメータ / 法線ベクトル / 基準面無し / 形状計測 / electrochemical etching / metal contamination / silicon wafer / silica / particle contamination / cleaning process / shear flow / ultrapure water / インジウム・シン・オキサイド / 液晶ディスプレー / 電気化学加工 / 金属汚染 / シリコンウエハ / シリカ / 微粒子汚染 / 洗浄 / せん断流 / 超純水 / High-rate deposition / Amorphous SiC / Atmospheric pressure plasma CVD / 超高速成膜 / アモルファスSiC / 大気圧プラズマCVD / Low temperature deposition / Thin film / Silicon / Surface modification / Ion gun / シリコンイオン / 表面改質 / TFT / 太陽電池 / 液体金属イオン源 / 多結晶 / 基板改質 / 低温成膜 / シリコン薄膜 / イオン照射 / ultra-precision machining / crystallographic properties / non-destructive / high sensitive / Si / surface photovaltage effects / 起精密加工 / 半導体 / 低温 / 加工変質層 / 非接触 / 超精密加工面 / 微弱表面電位計測システム / Si wafer / Elementary analysis / Si (001) 2*1 surface / Local density of states / First principle MD / H-terminated Si surface / Ab-inito MO / 電子構造 / 表面分析 / 金属汚染物 / シリコンウェーハ / 走査型トンネル分光法 / 水素終端化 / 走査型トンネル分光 / 走査型トンネル顕微鏡 / Si(001)2×1表面 / Siウェーハ / 元素分析 / Si (001) 2×1表面 / 局所状態密度 / 第一原理分子動力学 / 水素終端化Si表面 / Ab-initio分子軌道法 / Boundary Element Method / High Spatial Resolution / Polystirene Latex Sphere / Scanning Near-field Optical Microscope / 光による微細加工 / フォトレジスト / 微小突起 / 高分解能 / 高空間分解能 / ラテックス球プローブ / 境界要素法 / near field / ultra precision machined surface / surface of insulator / laser / piezo actuator / surface roughness / near-field / scanning near-field optical microscope / ニアフィールド / 超精密加工表面 / 絶縁体表面 / 圧電素子 / 表面粗さ / コヒーレントX線 / 超精密形状計測 / X線集光 / X線顕微鏡 / X線ミラー / CEM / エッチング / ポリシング 隠す
  • 研究課題

    (23件)
  • 研究成果

    (11件)
  • 共同研究者

    (19人)
  •  液晶用メーター超級大型フォトマスク基板の高精度・高能率作製プロセスの開発研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇蔵
    • 研究期間 (年度)
      2006 – 2008
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      生産工学・加工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  基準面を用いない高精度非球面X線ミラーの超精密形状計測に関する研究

    • 研究代表者
      東 保男
    • 研究期間 (年度)
      2004 – 2005
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      生産工学・加工学
    • 研究機関
      大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構
  •  超高精度X線ミラー作製による高分解能硬X線顕微鏡の開発

    • 研究代表者
      山内 和人
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2007
    • 研究種目
      基盤研究(S)
    • 研究分野
      生産工学・加工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  ナノデバイス用基板としての超薄膜SOIウエハの開発研究代表者

    • 研究代表者
      佐野 泰久, 森 勇蔵
    • 研究期間 (年度)
      2002 – 2003
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  超純水中での高速せん断流と電気化学作用を利用した超精密洗浄システムの開発研究代表者

    • 研究代表者
      後藤 英和, 森 勇蔵
    • 研究期間 (年度)
      2002 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  高性能アモルファスシリコンカーバイド(SiC)の超高速成膜に関する研究

    • 研究代表者
      芳井 熊安
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  超純水による新しい電気化学的加工法研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇蔵 (森 勇藏)
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2001
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  プラズマCVMを用いた超精密非球面光学素子加工装置の開発研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇藏 (森 勇蔵)
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  表面光起電力を利用したSiウエハの加工変質層の高感度計測

    • 研究代表者
      山内 和人
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1998
    • 研究種目
      萌芽的研究
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  回転電極を用いた大気圧汎用プラズマCVD装置の開発研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇蔵
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 1997
    • 研究種目
      萌芽的研究
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  完全表面の創成研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇藏 (森 勇蔵)
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 2002
    • 研究種目
      特別推進研究(COE)
    • 研究機関
      大阪大学
  •  大気圧プラズマを利用したラジカル加工におけるラジカル生成機構の解明研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇藏 (森 勇蔵)
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1996
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  イオン照射による薄膜用基板の表面制御-結晶性薄膜作製の低温プロセス化-

    • 研究代表者
      山内 和人
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1996
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  STM/STSによるシリコンウェーハ表面の金属汚染物の極微量元素分析

    • 研究代表者
      遠藤 勝義
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1996
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  大気圧プラズマを利用したEEM用粉末粒子作製装置の開発研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇蔵 (森 勇藏)
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  表面光起電力効果を利用したSi表面加工変質層の高感度計測

    • 研究代表者
      山内 和人
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  イオン照射による薄膜用基板の表面制御に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇蔵 (森 勇藏)
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1994
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      機械材料・材料力学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  光の近接場を利用した微細加工

    • 研究代表者
      片岡 俊彦
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1995
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  走査型近接場光学顕微鏡による超精密加工表面の評価

    • 研究代表者
      片岡 俊彦
    • 研究期間 (年度)
      1992 – 1993
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      機械工作・生産工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  EEM(Elastic Emission Machining)用粉末粒子の表面コーティングに関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇藏
    • 研究期間 (年度)
      1992 – 1993
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      機械工作
    • 研究機関
      大阪大学
  •  薄膜作製における基板表面制御に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇藏
    • 研究期間 (年度)
      1989 – 1990
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      機械材料工学
    • 研究機関
      大阪大学
  •  EEM(Elastic Emission Machining)用用微細粉末粒子の表面処理装置の開発研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇蔵
    • 研究期間 (年度)
      1989 – 1990
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      機械工作
    • 研究機関
      大阪大学
  •  超精密切削における加工面の表面物性的コントロールに関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      森 勇蔵
    • 研究期間 (年度)
      1986 – 1987
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      機械工作
    • 研究機関
      大阪大学

すべて 2006 2005

すべて 雑誌論文

  • [雑誌論文] A New Designed Ultra-high Precision Profiler - Study on Slope Error Measurement of a Mandrel for Wolter type-I mirror Fabrication -2006

    • 著者名/発表者名
      Yasuo.HIGASHI^<*a>.Yuichi.TAKAIE^b, Katsuyoshi.ENDO^b, Tatsuya.KUME^a, Kazuhiro.ENAMI^a, Kazuto.YAMAUCHI^c, Kazuya.YAMAMURA^c, Toshihisa.SANO^c, Kenji.UENO^a, Yuzo.MORI^c
    • 雑誌名

      Proc.Of the 8^<th> International Conference on X-ray Microscopy ; 26-30, July, at Egret Himeji 2006.6月発行(In printing)

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [雑誌論文] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • 雑誌名

      SR12006, Proc.of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [雑誌論文] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics -Calibration of the rotational angle error of the rotary encoders-2006

    • 著者名/発表者名
      Yasuo Higashi, Yuichi Takaie, Katsuyoshi Endo, Tatsuya Kume, Kazuhiro Enami, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kenii Ueno, Yuzo mori
    • 雑誌名

      SR12006, Proc. of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation, May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA (In printing)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [雑誌論文] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics2006

    • 著者名/発表者名
      Yasuo Higashi, Yuichi Takaie, Katsuyoshi Endo, Tatsuya Kume, Kazuhiro Enami, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kenii Ueno, Yuzo mori
    • 雑誌名

      SR12006, Proc. of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation, May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA (In printing)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [雑誌論文] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics-Calibration of the rotational angle error of the rotary encoders-2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • 雑誌名

      SR12006, Proc.of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [雑誌論文] A New Designed Ultra-high Precision Profiler2006

    • 著者名/発表者名
      Y.HIGASHI^a, Y.TAKAIE^b, K.ENDO^b, T.KUME^a, K.ENAMI^a, K.YAMAUCHI^c, K.YAMAMURA^c, H.SANO^c, K.UENO^a, Y.MORI^c
    • 雑誌名

      Proc of SPIE : Advances in Mirror Technology for X-ray, EUV Lithography, laser, and Other Applications, 3 August 2005, Sandiego, CA, USA Vol.# 5921(In printing)

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [雑誌論文] シンクロトロン放射光用ミラーのための超精密非球面形状測定装置の開発2006

    • 著者名/発表者名
      森勇蔵, 遠藤勝義, 宮脇崇, 瀬戸口大輔, 鷹家優一, 東保男, 久米達哉, 江並和宏
    • 雑誌名

      2006年精密工学会春季大会学術講演会講演論文集

    • NAID

      130005027107

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [雑誌論文] A new Designed High-Precision Profiler-Study on Mandrel measurement-2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • 雑誌名

      XRM2005 International Meeting Proceedings Himeji, Japan (in printing)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [雑誌論文] A new Designed High-Precision Profiler - Study on Mandrel measurement-2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • 雑誌名

      XRM2005 International Meeting Proceedings Hirneji, Japan, in printing (2005) (In printing)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [雑誌論文] A new Designed High-Precision Profiler2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • 雑誌名

      SPIE Annual Meeting (Opto photonics) Proceedings, San Diego, USA, in printing (2005) (In printing)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [雑誌論文] A new Designed High-Precision Profiler2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • 雑誌名

      SPIE Annual Meeting (Opto photonics) Proceedings, San Diego, USA (in printing)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • 1.  山内 和人 (10174575)
    共同の研究課題数: 19件
    共同の研究成果数: 10件
  • 2.  山村 和也 (60240074)
    共同の研究課題数: 13件
    共同の研究成果数: 10件
  • 3.  佐野 泰久 (40252598)
    共同の研究課題数: 13件
    共同の研究成果数: 4件
  • 4.  遠藤 勝義 (90152008)
    共同の研究課題数: 9件
    共同の研究成果数: 11件
  • 5.  片岡 俊彦 (50029328)
    共同の研究課題数: 6件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  杉山 和久 (30112014)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  広瀬 喜久治 (10073892)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  芳井 熊安 (30029152)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 9.  安武 潔 (80166503)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 10.  後藤 英和 (80170463)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 11.  森田 瑞穂 (50157905)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 12.  垣内 弘章 (10233660)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 13.  東 保男 (70208742)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 11件
  • 14.  上野 健治 (40370069)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 10件
  • 15.  久米 達哉 (40353362)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 11件
  • 16.  江波 和宏 (00370073)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 11件
  • 17.  稲垣 耕司 (50273579)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 18.  三村 秀和 (30362651)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 19.  青野 正和 (10184053)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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