伊藤隆司 ITO Takashi

研究者番号	20374952
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2011年度: 東京工業大学, ソリューション研究機構, 特任教授 2010年度: 東北大学, ソリューション研究機構, 特任教授 2007年度 – 2009年度: 東北大学, 大学院・工学研究科, 教授 2008年度: 東北大学, 大学院工学・研究科, 教授 2006年度: 東北大学, 大学院工学研究科, 教授 2005年度: 東北大学, 大学院・工学研究科, 教授 1988年度: 富士通研究所, 第三研究室, 部長代理
審査区分/研究分野	研究代表者電子デバイス・電子機器研究代表者以外電子材料工学 / 工学 / 理工系
キーワード	研究代表者 TFT / 結晶配向制御 / Siナノワイヤー / チャネリング注入 / 結晶配向 / ナノワイヤー / 多結晶シリコン / チャネリング / イオン注入 / 活性化率 … もっと見る / ノックオン注入 / マイクロ波アニール / 極浅接合形成 / 結晶粒 / 電子デバイス … もっと見る研究代表者以外 Strainde-Layer Superlattices / Low-Temperature Epitaxy / Photo-Chemical Vapor Deposition / 超高濃度ドーピング / SiGe / Si / 歪超格子 / 低温エピタキシャル成長 / 光CVD法 / 原子力学 / 放射線計測 / 半導体検出器 / CT / 分子イメージング / 核医学 / 半導体PET / 医療・福祉 / システム工学 / 放射線 / 陽電子断層撮影装置 / PET 隠す

多重チャネリングイオン注入により配向制御した単結晶Siナノワイヤーの創出研究代表者
- 研究代表者
  
  伊藤隆司
- 研究期間 (年度)
  2009 – 2011
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  東京工業大学
絶縁基板上Si薄膜の3次元結晶配向制御とTFT応用研究代表者
- 研究代表者
  
  伊藤隆司
- 研究期間 (年度)
  2007 – 2008
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  東北大学
半導体デバイスの超微細化に向けた革新的な高濃度極浅接合形成技術の創出研究代表者
- 研究代表者
  
  伊藤隆司
- 研究期間 (年度)
  2007 – 2008
- 研究種目
  
  萌芽研究
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  東北大学
１ｍｍ以下の解像力を持つ超高分解能半導体ＰＥＴ（：次世代型ＰＥＴ）の開発
- 研究代表者
  
  石井慶造
- 研究期間 (年度)
  2005 – 2009
- 研究種目
  
  特別推進研究
- 審査区分
  
  理工系
   工学
- 研究機関
  東北大学
光CVD法によるSiのエピタキシャル成長法の開発
- 研究代表者
  
  小長井誠
- 研究期間 (年度)
  1987 – 1988
- 研究種目
  
  試験研究
- 研究分野
  
  電子材料工学
- 研究機関
  東京工業大学

すべて 2012 2011 2010 2009 2008 2007

すべて雑誌論文学会発表産業財産権

[雑誌論文] In-Plane Grain Orientation Alignment of Polycrystalline Si Films by Normal and Oblique-Angle Ion-Implantations2012
- 著者名/発表者名
  Anri Nakajima, Shin-Ichiro Kuroki, Shuntaro Fujii, and Takashi Ito
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 51
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[雑誌論文] Carrier transport and its variation of laser-lateral crystallized poly-Si TFTs2011
- 著者名/発表者名
  S.-I. Kuroki, S. Fujii, K. Kotani, andT. Ito
- 雑誌名
  
  Elec. Lett.
  
  巻: 47, 24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[雑誌論文] Seed-Free Fabrication of Highly Bi-Axially Oriented Poly-Si Thin Films by Continuous-Wave Laser Crystallization with Double-Line Beams2011
- 著者名/発表者名
  Shin-Ichiro Kuroki, Yuya Kawasaki, Shuntaro Fujii, Koji Kotani, and Takashi Ito
- 雑誌名
  
  J. Electrochem. Soc.
  
  巻: 158, 9
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[雑誌論文] Strain-Induced Back Channel Electron Mobility Enhancement in Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors Fabricated by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization2011
- 著者名/発表者名
  Shuntaro Fujii, Shin-Ichiro Kuroki, Koji Kotani, Takashi Ito
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phy.
  
  巻: Vol.50
- NAID
  210000070347
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[雑誌論文] Functional gate metal-oxide semiconductor field-effect transistors using tunnel injection/ejection of trap charges enabling self-adjustable threshold voltage for ultralow power operation2011
- 著者名/発表者名
  Anri Nakajima, Takashi Kudo, TakashiIto
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Lett.
  
  巻: Vol.98
- NAID
  120006582092
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[雑誌論文] Roughness Reduction in Polycrystalline Silicon Thin Films Formed by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization with Cap SiO2 Thin Films2010
- 著者名/発表者名
  Shuntaro Fujii, Shin-Ichiro Kuroki, Masayuki Numata, Koji Kotani, Takashi Ito
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: Vol.48
- NAID
  210000066640
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[雑誌論文] Highly Reliable and Drivability-Enhanced MOS Transistors with Rounded Nanograting Channels2010
- 著者名/発表者名
  T.Ito
- 雑誌名
  
  IEICE TRANS. ELECTRON.
  
  巻: E93-C ページ: 1638-1644
- NAID
  10027983872
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[雑誌論文] Highly Reliable and Drivability-Enhanced MOS Transistors with Rounded Nanograting Channels2010
- 著者名/発表者名
  Takashi ITO, Xiaoli ZHU, Shin-Ichiro KUROKI, Koji KOTANI
- 雑誌名
  
  IEICE TRANCE. ELECTRON.
  
  巻: Vol.E93-C, No.11 ページ: 1638-1644
- NAID
  10027983872
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[雑誌論文] Enhancement of Current Drivability of Nanograting Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors2010
- 著者名/発表者名
  Shin-Ichiro Kuroki, Xiaoli Zhu, Koji Kotani, and Takashi Ito
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: Vol.49
- NAID
  210000068329
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[雑誌論文] Roughness Reduction in Polycrystalline Silicon Thin Films Formed by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization with Cap SiO2 Thin Films2009
- 著者名/発表者名
  Vol.48Sunichiro Fujii, Shin-Ichiro Kuroki, Masaki Numata, Koji Kotani, and Takashi Ito
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: Vol.48
- NAID
  210000066640
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[雑誌論文] Analysis of Drivability Enhancement Factors in Nanograting Metal-Oxide-Semiconductor Field- Effect Transistors2008
- 著者名/発表者名
  Xiaoli Zhu, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys 3046-3049
  
  ページ: 3046-3049
- NAID
  210000064666
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[雑誌論文] Crystallinity and Internal Strain of One-Dimensionally Long Si Grains by CW Laser Lateral Crystallization2008
- 著者名/発表者名
  S. Fujii, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 雑誌名
  
  ECS Transactions 16
  
  ページ: 145-151
- NAID
  120006581926
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[雑誌論文] Analysis of Continuous-Wave Laser Crystallized Polycrystalline Silicon Films with Large Tensile Strain2008
- 著者名/発表者名
  S. Fujii, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 47
  
  ページ: 3081-3085
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[雑誌論文] Advantages of Nano-Grating Si Substrates in CMOS-FET Characteristics2007
- 著者名/発表者名
  Xiaoli Zhu, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 雑誌名
  
  ECS Transactions 11
  
  ページ: 467-472
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[雑誌論文] Enlargement of Crystal Grains in Thin Silicon Films by Continuous-Wave Laser Irradiation2007
- 著者名/発表者名
  S. Fujii, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys 46
  
  ページ: 2501-2504
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[雑誌論文] Characteristics of Nano-Grating N-Channel MOSFETs for Improved Current Drivability2007
- 著者名/発表者名
  Xiaoli Zhu, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 雑誌名
  
  IEICE TRANS. ELECTRON E90-C
  
  ページ: 1830-1836
- NAID
  110007538948
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[雑誌論文] First achievement of less than 1mm FWHM resolution in practical semiconductor animal PET scanner2007
- 著者名/発表者名
  K. Ishii, Y. Kikuchi, S. Matsuyama, Y. Kanai, K. Kotani, T. Ito, H. Yamazaki, Y. Funaki, R. Iwata, M. Itoh, K. Yanai, J. Hatazawa, N. Itoh, et al., (他17名)
- 雑誌名
  
  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A576
  
  ページ: 435-440
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17002010
[産業財産権] 半導体薄膜の製造方法2009
- 発明者名
  伊藤隆司
- 権利者名
  東北大学
- 出願年月日
  2009-03-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[産業財産権] 半導体薄膜の製造方法2009
- 発明者名
  伊藤隆司
- 権利者名
  東北大学
- 産業財産権番号
  2009-078991
- 出願年月日
  2009-03-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[産業財産権] 結晶性半導体薄膜の製造方法2009
- 発明者名
  伊藤隆司
- 権利者名
  東北大学
- 産業財産権番号
  2009-231139
- 出願年月日
  2009-10-05
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[産業財産権] 電界効果型半導体装置2009
- 発明者名
  伊藤隆司
- 権利者名
  東北大学
- 産業財産権番号
  2009-246788
- 出願年月日
  2009-10-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[産業財産権] 薄膜トランジスタの製造方法2008
- 発明者名
  伊藤隆司
- 権利者名
  東北大学
- 産業財産権番号
  2008-154781
- 出願年月日
  2008-06-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[産業財産権] 薄膜トランジスタ製造方法2008
- 発明者名
  伊藤隆司
- 権利者名
  東北大学
- 出願年月日
  2008-06-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[産業財産権] シリコン酸化膜の堆積方法2007
- 発明者名
  伊藤隆司, 黒木伸一郎
- 権利者名
  東北大学
- 産業財産権番号
  2007-293064
- 出願年月日
  2007-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[産業財産権] 薄膜トランジスタ及びその製造方法2007
- 発明者名
  伊藤隆司
- 権利者名
  東北大学
- 産業財産権番号
  2007-191515
- 出願年月日
  2007-08-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] Highly Bi-axially Orientation Controlled Si Films on Glass Substrates By Double-Line Beam CW Laser Annealing2011
- 著者名/発表者名
  T.Ito
- 学会等名
  EUROSOI 2011
- 発表場所
  Granada, Spain
- 年月日
  2011-01-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[学会発表] Bi-Axially Orientation-Controlled Si Thin Films on Glass Substrates by Double-Line Beam CW Laser Annealing2011
- 著者名/発表者名
  Shin-Ichiro Kuroki, Yuya Kawasaki, Shuntaro Fujii, Koji Kotani, and Takashi Ito
- 学会等名
  VIth Workshop of the Thematic Network on Silicon On Insulator Technology, Devices and Materials
- 発表場所
  Spain
- 年月日
  2011-01-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[学会発表] レーザラテラル結晶化Poly-Si TFTにおける膜中歪みの効果2011
- 著者名/発表者名
  黒木伸一郎,川崎雄也,藤井俊太朗,小谷光司,伊藤隆司
- 学会等名
  第8回薄膜材料デバイス研究会資料
- 発表場所
  京都
- 年月日
  2011-11-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[学会発表] Alignment of In-plane Crystallographic Grain Orientations in Polycrystalline Si Films by Normal and Oblique-Angle Ion-Implantations2011
- 著者名/発表者名
  Anri Nakajima, Shin-Ichiro Kuroki, Shuntaro Fujii, and Takashi Ito
- 学会等名
  2011 International Conference on Solid State Devices and Materials
- 発表場所
  名古屋
- 年月日
  2011-09-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[学会発表] Strain-Induced Back Channel Electron Mobility Enhancement in Poly-Si TFTs Formed by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization2010
- 著者名/発表者名
  Suntaro Fujii, Shin-Ichiro Kuroki, Koji Kotani, and Takashi Ito
- 学会等名
  2010 International Conference on Solid State Devices and Materials
- 発表場所
  東京
- 年月日
  2010-09-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[学会発表] ダブルラインビームCLCによる3軸配向性の高いPoly Si薄膜形成2010
- 著者名/発表者名
  黒木伸一郎,川崎雄也,藤井俊太朗,小谷光司,伊藤隆司
- 学会等名
  第7回薄膜材料デバイス研究会
- 発表場所
  奈良
- 年月日
  2010-11-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[学会発表] 高性能LTPS-TFTのためのDouble-Line-Beam CLCによる高結晶配向Poly-Si薄膜形成2010
- 著者名/発表者名
  黒木伸一郎,川崎雄也,藤井俊太朗,小谷光司,伊藤隆司
- 学会等名
  電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会
- 発表場所
  仙台
- 年月日
  2010-10-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[学会発表] Enlargement of Crystal-Grains in Thin Silicon Films Using Continuous Wave Laser Irradiation2010
- 著者名/発表者名
  Suntaro Fujii, Shin-Ichiro Kuroki, Koji Kotani, and Takashi Ito
- 学会等名
  2010 International Conference on Solid State Devices and Materials
- 発表場所
  東京
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[学会発表] 石英基板上に作製したVth可変ラテラル結晶化poly-Si TFT2010
- 著者名/発表者名
  藤井俊太朗,黒木伸一郎,小谷光司,伊藤隆司
- 学会等名
  第57回応用物理学関係連合講演会講演会
- 発表場所
  平塚
- 年月日
  2010-03-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[学会発表] CWレーザ多重回照射によるシリコン薄膜の(100)結晶は配向性向上2009
- 著者名/発表者名
  岩田英範, 藤井俊太朗、黒木伸一郎, 小谷光司, 伊藤隆司
- 学会等名
  第56回応用物理学会関係連合講演会
- 年月日
  2009-03-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] Cap SiO2薄膜によるラテラル結晶化Poly-Si薄膜のラフネス低減2009
- 著者名/発表者名
  藤井俊太朗、黒木伸一郎, 小谷光司, 伊藤隆司
- 学会等名
  第56回応用物理学会関係連合講演会
- 年月日
  2009-03-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] CLC poly-Si TFTのキャリア輸送メカニズムの解析2009
- 著者名/発表者名
  藤井俊太朗、黒木伸一郎, 小谷光司, 伊藤隆司
- 学会等名
  第69回応用物理学会学術講演会
- 年月日
  2009-09-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] The Drivability Enhancement of Poly-Si TFTs by use of Nanograting Substrate2009
- 著者名/発表者名
  Shin-Ichiro Kuroki, Xiaoli Zhu, Koji Kotani, and Takashi Ito
- 学会等名
  2009 International Conference on Solid State Devices and Materials
- 発表場所
  仙台
- 年月日
  2009-10-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21360157
[学会発表] Research on Poly-Si TFTs with One-dimensionally long grains formed by CW laser lateral crystallization2008
- 著者名/発表者名
  Xiaoli Zhu, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 学会等名
  SOIM-GCOE08
- 年月日
  2008-10-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] Crystallinity and Internal Strain of One-Dimensionally Long Si Grains by CW Laser Lateral Crystalli- zation2008
- 著者名/発表者名
  S. Fujii, S. Kuroki, K. Kotani, andT. Ito
- 学会等名
  214^<th>ECS Meeting
- 年月日
  2008-10-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] Carrier Transport Mechanism in Poly-Si TFTs with One-Dimensionaly Long Grains2008
- 著者名/発表者名
  S. Fujii, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 学会等名
  The 2008 International Conference on Solid State Devices and Materials
- 年月日
  2008-09-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] エタノール添加スラリーを用いたCWレーザ結晶化Si薄膜のCMP2008
- 著者名/発表者名
  黒木伸一郎, 沼田雅之, 藤井俊太朗, 小谷光司, 伊藤隆司
- 学会等名
  薄膜材料デバイス研究会第5回研究集会
- 年月日
  2008-10-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] エタノール添加スラリーを用いたCMPによるCWレーザ結晶化Si薄膜の平坦化2008
- 著者名/発表者名
  沼田雅之, 藤井俊太朗、黒木伸一郎, 小谷光司, 伊藤隆司
- 学会等名
  電子情報通信学会SDM研究会
- 年月日
  2008-10-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] Roughness Reduction Technique for High Performance Poly-Si TFTs by CW Laser Lateral Crystallization with Cap SiO_2 Thin Films2008
- 著者名/発表者名
  S. Fujii, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 学会等名
  The 2008 International Conference on Solid State Devices and Materials
- 年月日
  2008-09-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] Research on High Performance Poly-Si TFTs with One-dimensionally long grain and reduced surface roughness2008
- 著者名/発表者名
  S. Fujii, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 学会等名
  SOIM-GCOE08
- 年月日
  2008-10-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] The Drivability Enhancement Mechanisms in Nano-grating MOSFETs2007
- 著者名/発表者名
  Xiaoli Zhu, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 学会等名
  International Conference on Solid State Devices and Materials
- 年月日
  2007-09-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] ラテラル結晶化Si薄膜におけるイオンチャネリング効果と固相結晶化2007
- 著者名/発表者名
  藤井俊太朗、黒木伸一郎, 小谷光司, 伊藤隆司
- 学会等名
  第68回応用物理学会学術講演会
- 年月日
  2007-09-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] 連続波グリーンレーザ再結晶化Si薄膜における結晶性と歪み2007
- 著者名/発表者名
  黒木伸一郎, 藤井俊太朗, 小谷光司, 伊藤隆司
- 学会等名
  薄膜材料デバイス研究会第4回研究集会
- 年月日
  2007-11-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] Lateral Recrystallized Si Thin Films with Large Tensile Strain for High Performance Thin Film Transistors2007
- 著者名/発表者名
  S. Fujii, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 学会等名
  International Conference on Solid State Devices and Materials
- 年月日
  2007-09-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] Research on High-performance Nano-grating Si TFTs2007
- 著者名/発表者名
  Xiaoli Zhu, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 学会等名
  The 1st Inter- national Symposium on Information Electronics Systems
- 年月日
  2007-11-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] Advantages of Nano-Grating Si Substrates in CMOS-FET Characteristics2007
- 著者名/発表者名
  Xiaoli Zhu, S. Kuroki, K. Kotani, and T. Ito
- 学会等名
  212th ECS Meeting
- 年月日
  2007-10-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152
[学会発表] 連続波レーザ結晶化Si薄膜のCMP研磨特性2007
- 著者名/発表者名
  沼田雅之, 藤井俊太朗、黒木伸一郎, 小谷光司, 伊藤隆司
- 学会等名
  第68回応用物理学会学術講演会
- 年月日
  2007-09-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19360152

1. 小谷光司 (20250699)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 24件
2. 黒木伸一郎 (70400281)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 40件
3. 石井慶造 (00134065)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
4. 山崎浩道 (00166654)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
5. 松山成男 (70219525)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
6. 菊池洋平 (50359535)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
7. 谷内一彦 (50192787)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
8. 畑澤順 (70198745)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
9. 伊藤伸彦 (00159899)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
10. 中島安理 (70304459)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 3件
11. 小長井誠 (40111653)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
12. 木村龍平 (80161587)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
13. 伊藤正敏 (00125501)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件

伊藤 隆司 ITO Takashi

研究課題

研究成果

共同研究者

多重チャネリングイオン注入により配向制御した単結晶Siナノワイヤーの創出研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

絶縁基板上Si薄膜の3次元結晶配向制御とTFT応用研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

半導体デバイスの超微細化に向けた革新的な高濃度極浅接合形成技術の創出研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

１ｍｍ以下の解像力を持つ超高分解能半導体ＰＥＴ（：次世代型ＰＥＴ）の開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

光CVD法によるSiのエピタキシャル成長法の開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] In-Plane Grain Orientation Alignment of Polycrystalline Si Films by Normal and Oblique-Angle Ion-Implantations2012

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Carrier transport and its variation of laser-lateral crystallized poly-Si TFTs2011

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Seed-Free Fabrication of Highly Bi-Axially Oriented Poly-Si Thin Films by Continuous-Wave Laser Crystallization with Double-Line Beams2011

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Strain-Induced Back Channel Electron Mobility Enhancement in Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors Fabricated by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization2011

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Functional gate metal-oxide semiconductor field-effect transistors using tunnel injection/ejection of trap charges enabling self-adjustable threshold voltage for ultralow power operation2011

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Roughness Reduction in Polycrystalline Silicon Thin Films Formed by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization with Cap SiO2 Thin Films2010

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Highly Reliable and Drivability-Enhanced MOS Transistors with Rounded Nanograting Channels2010

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Highly Reliable and Drivability-Enhanced MOS Transistors with Rounded Nanograting Channels2010

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Enhancement of Current Drivability of Nanograting Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors2010

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Roughness Reduction in Polycrystalline Silicon Thin Films Formed by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization with Cap SiO2 Thin Films2009

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

伊藤隆司 ITO Takashi