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菅井 秀郎  SUGAI Hideo

ORCIDORCID連携する *注記
… 別表記

管井 秀郎  スガイ ヒデオ

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研究者番号 40005517
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2013年度: 中部大学, 工学部, 教授
2010年度: 中部大学, 工学部, 教授
2006年度: 名古屋大学, 大学院工学研究科, 教授
1999年度 – 2005年度: 名古屋大学, 大学院・工学研究科, 教授
1997年度 – 2004年度: 名古屋大学, 工学研究科, 教授 … もっと見る
2002年度: 名古屋大学, 大学院・工学研究科, 助教授
2000年度: 名古屋大学, 大学院・工学研究所, 教授
1997年度: 名古屋大学, 大学院・工学研究科, 教授
1992年度 – 1996年度: 名古屋大学, 工学部, 教授
1987年度 – 1990年度: 名古屋大学, 工学部, 教授
1986年度: 名古屋大学, 工学部, 助教授
1986年度: 名大, 工学部, 助教授
1985年度: 名古屋大学, 工, 助教授 隠す
審査区分/研究分野
研究代表者
プラズマ理工学 / プラズマ科学
研究代表者以外
プラズマ理工学 / プラズマ科学
キーワード
研究代表者
水素リサイクリング / プラズマプロセス / hydrogen recycling / マイクロ波放電 / silicon oxidation / liquid crystal display / large area plasma / slot antenna / surface wave plasma / シリコン酸化 … もっと見る / スロットアンテナ / 表面波プラズマ / XPS / イオンビーム / CVD / 大口径プラズマ / oxygen gettering / decaborane / boron coating / 不純物 / 核融合 / 酸素ゲッタリング / デカボラン / ボロンコーティング / plasma CVD / surface magnetic field / plasma etching / エッチング / 反応性プラズマ / 多極磁場 / 表面磁場 / プラズマCVD / プラズマエッチング / プラズマ / Double Plasma / Glow Discharge / Microwave Discharge / Electron Beam / Ion Beam / Plasma Process / Thin Film / ダブルプラズマ / グブルプラズマ / グロー放電 / 電子ビーム / 機能性薄膜 / Electron Cyclotron Resonance / Bernstein Mode Upper-Hybrid Resonance / Extraordinary Mode / Ordinary Mode / Mode Conversion / Weve Heating / 電子サイクロトロン加熱 / 高域混成共鳴 / 電磁波 / レィトレーシング / 電子サイクロトロン共鳴 / アッパーハイブリッド共鳴 / バーンシュタイン波 / 異常波 / 正常波 / モード変換 / 波動加熱 / Hydrogen Recycling / Carbonization / Coating / Carbon / Plasma CVD / 壁 / 薄膜 / メタン / ダイアモンド状薄膜 / カーボニゼーション / コーティング / カーボン / プラスマCVD / micro-crystalline silicon / solar cell / microwave discharge / 液晶デイスプレイ / 液晶ディスプレス / 微結晶シリコン / 液晶ディスプレイ / 太陽電池 / 大面積プラズマ / oxygen radical / poly-silicon / electron energy distribution function / 表面加熱 / 体積加熱 / 酸素ラジカル / ポリシリコン / 液晶 / 電子エネルギー分布関数 / silicon / ion beam / neutral radical / surface reaction / etching / plaasma processing / プロズマプロセス / シリコン / 中性ラジカル / 表面反応 / lithium hydroxide / lithium hydride / tritium / hydrogen desorption / wall pumping / low-Zmaterial coating / lithium / プラズマ・壁相互作用 / 水酸化リチウム / 水素化リチウム / 昇温脱離 / 水素脱離 / 壁排気 / 低Z材コーティング / リチウム / ECR plasma / impurity control / rithium coating / first wall conditioning / ECRプラズマ / 不純物制御 / リチウムコーティング / 第一壁コンディショニング / indium-tin-oxide film / Faraday shield / helicon plasma / inductively coupled plasma / high density plasma / plasma process / 電子ビーム不安定 / 電子密度測定 / 誘導型RF放電 / シリコン・エッチング / 高周波プラズマ / 誘導型RF / 永久磁石 / アンテナ電磁界 / ラジカル / ファラデシールド / ITO薄膜 / 選択ドライエッチング / ヘリコン波プラズマ / ITO膜 / ファラデーシールド / ヘリコンプラズマ / 誘導結合型プラズマ / 高密度プラズマ / nuclear fusion / diborane / boronization / シボラン / デガボラン / ジボラン / ボロニゼーション / plasma-surface interaction / fragmentation / radio frequency discharge / multi-dipole field / plasma processing / 電子ビ-ム / デポジション / プラズマ・表面相互作用 / フラグメンテ-ション / 高周波放電 / 廃液処理 / マイクロ波 / ソノケミストリー / 超音波 … もっと見る
研究代表者以外
プラズマCVD / シース / 電子密度 / プラズマプロセス / マイクロ波プラズマ / プラズマ / 質量分析法 / メタンガス / Sheath / 表面波 / 分散関係 / プラズマ吸収プローブ / 堆積膜 / ダイヤモンド薄膜 / プラズマ・壁相互作用 / 膜堆積 / microwave plasma / surface wave plasma / 表面波プラズマ / 低温形成 / 多結晶シリコン / 誘導結合プラズマ / 電磁界解析 / 電子温度 / ラジカル絶対密度 / シランガス / Recycling / Carbon / Discharge Cleaning / Laser Blow-Off / Arcing / Plasma-Wall Interaction / レーザ / ブローオフ / 不純物 / 壁 / リサイクリング / コーティング / カーボン / 放電洗浄 / レーザブローオフ / アーク / Stark spectroscopy / Argon / Diode laser / Cost reduction / Measurement of sheath electric field / Laser-induced fluorescence-dip spectroscopy / シュタルク分光法 / アルゴン / 半導体レーザー / 低コスト化 / シース電界計測 / レーザー誘起蛍光減光法 / beam experiment / silicon dioxide / selective etching / fluorocarbon / ビーム実験 / 酸化シリコン / 選択エッチング / フロロカーボン / sheath / surface wave / dispersion relation / plasma absorption probe / deposition film / electron density / plasma processing / High Pressure Plasma / Large-area Thin Film Processing / Electromagnetic Wave Analysis / Microwave Launcher / Carbon Nanotube / Diamond Thin Film / Plasma CVD / Microwave Plasma / 時間差分法 / カーボン系薄膜 / 大面積プラズマCVD / アッシング / 高圧力プラズマ / 大面積薄膜プロセス / マイクロ波ランチャー / カーボンナノチューブ / pulse modulated discharge / VUV / vacuum ultraviolet / SEEC / secondary electron / PIII / ion implantation / plasma / 二次電子放出係数 / 半導体検出器 / 表面モニタ / 注入深さ / 二次電子放出率 / 二次電子 / プラズマイオン注入 / Fluorocarbon plasma / Debye length / Dispersion relation / Dielectric tube / Surface wave resonance / Plasma absorption probe / パワー吸収スペクトル / フロンプラズマ / diamond-like carbon film / field emission / diamond film / plasma CVD / 電子電界放出 / 電子エミッター / アモルファスカーボン膜 / ダイヤモンドライクカーボン膜 / 電界電子放出特性 / ダイヤモンド膜 / Radical desorption / Wall control / Ion bombardment / RF bias / plasma-wall interaction / Silicon dioxide / Etching / Plasma Process / ラジカル脱離 / 壁制御 / RFバイアス / シリコン酸化膜 / エッチング / 経時変化 / 中性ラジカル / クリーニング / イオン衝撃 / energy absorption mechanism / processing plasma / slot antenna / antenna-plasma coupling / 大面積プラズマ / エネルギー吸収機構 / プロセス用プラズマ / スロットアンテナ / アンテナ-プラズマ結合系 / large area deposition / high speed deposition / high-density plasma / lower temperature deposition / inductively-coupled plasma / poly-crystalline silicon / 大面積堆積 / 高速堆積 / 高密度プラズマ / low temperature deposition / ultraviolet transmission spectroscopy / radical diagnostics / polycrystalline silicon / appearance mass spectrometry / inductively coupled plasma / amorphus silicon / 水素化アモルファスシリコン / シランプラズマ / ラジカル計測 / 紫外透過分光法 / 出現質量分析法 / アモルファスシリコン / oxygen gettering / Hydrogen recycling / Lithium coating / Nuclear fusion / 酸素ゲッタリング / 水素リサイクリング / リチウムコーティング / 核融合 / ION / PROCESS / SPECTROSCOPY / MODELING / PARTICLES / LASER / PLASMA / FREE RADICAL / シリコン / イオン / プロセス / 分光 / モデリング / 微粒子 / レーザー / フリーラジカル / 反応速度定数 / ラジカル検出 / しきい値イオン化法 / レーザ誘起蛍光法 / ネットワークアナライザ / パルス放電 / プローブ / モニタリング / 電子状態 / 小型化 / マイクロ波共振器プローブ / 周波数シフトプローブ / 太陽風 / オーロラ / 雷 / 活性種 / 放電 / 励起 / 電離 / aーSi;H薄膜 / ラジカル流束 / レ-ザ-分光法 / ラジカル反応速度 / ラジカル空間分布 / レーザー分光法 隠す
  • 研究課題

    (32件)
  • 研究成果

    (123件)
  • 共同研究者

    (35人)
  •  材料プロセス用高気圧プラズマの電子状態計測

    • 研究代表者
      中村 圭二
    • 研究期間 (年度)
      2011 – 2013
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      プラズマ科学
    • 研究機関
      中部大学
  •  周波数シフトプローブの高性能化に関する研究

    • 研究代表者
      中村 圭二
    • 研究期間 (年度)
      2008 – 2010
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      プラズマ科学
    • 研究機関
      中部大学
  •  超音波キャビテーションによる液中プラズマ生成と応用のさきがけ研究研究代表者

    • 研究代表者
      菅井 秀郎
    • 研究期間 (年度)
      2005 – 2006
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      プラズマ科学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  レーザー誘起蛍光減光法によるプラズマ電界計測の高機能化および低コスト化

    • 研究代表者
      佐々木 浩一
    • 研究期間 (年度)
      2004 – 2006
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      プラズマ科学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  マイクロ波帯の大面積放電によるジャイアント・プラズマプロセスの創出研究代表者

    • 研究代表者
      菅井 秀郎
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2005
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      プラズマ科学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  プラズマ吸収プローブを用いた電子密度・電子温度の同時計測と堆積性プラズマへの応用

    • 研究代表者
      中村 圭二
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2005
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      プラズマ科学
    • 研究機関
      中部大学
  •  フロロカーボン分子の表面反応過程と新規エッチングプロセスの基礎研究

    • 研究代表者
      豊田 浩孝
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2004
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      プラズマ科学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  高圧力・高密度マイクロ波プラズマ源の開発とその大面積薄膜プロセスへの応用

    • 研究代表者
      永津 雅章
    • 研究期間 (年度)
      2002 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      静岡大学
  •  プラズマイオン注入における表面改質とイオン・中性ラジカルの挙動

    • 研究代表者
      中村 圭二
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2002
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      中部大学
  •  表面波プラズマによる大面積・高品質液晶プロセスの開発研究代表者

    • 研究代表者
      菅井 秀郎
    • 研究期間 (年度)
      2000 – 2002
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  電離気体現象とその応用に関する企画調査

    • 研究代表者
      佐藤 徳芳
    • 研究期間 (年度)
      1999
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      東北大学
  •  平面状表面波プラズマを用いた大面積ダイヤモンド薄膜生成に関する研究

    • 研究代表者
      永津 雅章
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2000
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  膜堆積に強い電子密度の新測定法と超精密プラズマ制御への応用

    • 研究代表者
      中村 圭二
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2001
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      中部大学
  •  高性能ビーム装置を用いる表面反応過程の研究研究代表者

    • 研究代表者
      菅井 秀郎
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 2001
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  フロロカーボンプラズマにおける新しい壁制御法の開発とプラズマ・壁相互作用

    • 研究代表者
      中村 圭二
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 2000
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      中部大学
      名古屋大学
  •  高密度プラズマを用いた大面積多結晶シリコン薄膜の低温形成

    • 研究代表者
      豊田 浩孝
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  表面波プラズマにおけるマイクロ波吸収機構の解明とアンテナ結合系の最適化

    • 研究代表者
      永津 雅章
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1998
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  リチウム膜による水素の選択排気法の開発研究代表者

    • 研究代表者
      菅井 秀郎
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1997
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  新しいラジカル計測法によるシラン系プラズマの診断と制御

    • 研究代表者
      豊田 浩孝
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1996
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  定常化研究における第一壁のコンディショニング法研究代表者

    • 研究代表者
      菅井 秀郎
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  プラズマプロセスにおけるフリーラジカルに関する研究

    • 研究代表者
      後藤 俊夫
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1995
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  リチウムコーティングとプラズマ・表面過程の基礎研究

    • 研究代表者
      豊田 浩孝
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1994
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  ボロニゼーションによる粒子制御の最適化研究代表者

    • 研究代表者
      菅井 秀郎
    • 研究期間 (年度)
      1992 – 1993
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  表面磁場を用いる大口径RFプラズマの開発研究代表者

    • 研究代表者
      菅井 秀郎
    • 研究期間 (年度)
      1992 – 1994
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  プラズマCVDにおけるラジカルの空間分布と輸送の制御

    • 研究代表者
      橘 邦英
    • 研究期間 (年度)
      1990
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      京都工芸繊維大学
  •  プラズマCVDにおけるラジカルの空間分布と輸送の制御

    • 研究代表者
      橘 邦英
    • 研究期間 (年度)
      1989
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      京都工芸繊維大学
  •  超微細プロセス用低エネルギ-粒子ビ-ム源の開発研究代表者

    • 研究代表者
      管井 秀郎 (菅井 秀郎)
    • 研究期間 (年度)
      1989 – 1990
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  プラズマCVDにおけるラジカルの空間分布と輸送の制御

    • 研究代表者
      橘 邦英
    • 研究期間 (年度)
      1988
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      京都工芸繊維大学
  •  ダブルプラズマ法による機能性薄膜の作成研究代表者

    • 研究代表者
      菅井 秀郎
    • 研究期間 (年度)
      1987 – 1988
    • 研究種目
      試験研究
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  磁化プラズマにおける電磁波のモード変換現象研究代表者

    • 研究代表者
      菅井 秀郎
    • 研究期間 (年度)
      1986 – 1987
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  プラズマCVDによるカーボンコーティング法の開発研究代表者

    • 研究代表者
      菅井 秀郎
    • 研究期間 (年度)
      1985 – 1986
    • 研究種目
      試験研究
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  プラズマ・壁相互作用の物理・化学過程とシースの役割

    • 研究代表者
      奥田 孝美
    • 研究期間 (年度)
      1984 – 1986
    • 研究種目
      一般研究(A)
    • 研究分野
      プラズマ理工学
    • 研究機関
      名古屋大学

すべて 2014 2013 2012 2011 2010 2009 2008 2006 2005 2004 2003 その他

すべて 雑誌論文 学会発表 図書

  • [図書] プラズマ診断の基礎と応用2006

    • 著者名/発表者名
      菅井 秀郎(分担執筆)
    • 出版者
      コロナ社
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [図書] プラズマ診断の基礎と応用(2.2,6.1,6.2章)2006

    • 著者名/発表者名
      菅井 秀郎(分担執筆)
    • 総ページ数
      37
    • 出版者
      コロナ社
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17654117
  • [図書] Technology of Microwave Plasma2005

    • 著者名/発表者名
      H.Sugai
    • 総ページ数
      257
    • 出版者
      Omu Company
    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [図書] マイクロ波プラズマの技術(電気学会・マイクロ波プラズマ調査専門委員会編)2003

    • 著者名/発表者名
      菅井 秀郎(分担執筆)
    • 総ページ数
      257
    • 出版者
      オーム社
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Curling probe measurement of electron density in pulse-modulated plasma2014

    • 著者名/発表者名
      A. Pandey, W. Sakakibara and , H. Matsuoka, K. Nakamura and H. Sugai
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett

      巻: Vol. 104

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [雑誌論文] Curling probe measurement of electron density in pulse-modulated plasma2014

    • 著者名/発表者名
      Anil Pandey, Wataru Sakakibara, Hiroyuki Matsuoka, Keiji Nakamura, Hideo Sugai
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett. Vol. 104

      巻: 104

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [雑誌論文] Opto-Curling Probe for Simultaneous Monitoring of Optical Emission and Electron Density in Reactive Plasmas2013

    • 著者名/発表者名
      A. Pandey, K. Nakamura and H. Sugai
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Express

      巻: Vol. 6 ページ: 56202-1

    • NAID

      10031174342

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [雑誌論文] Opto-Curling Probe for Simultaneous Monitoring of Optical Emission and Electron Density in Reactive Plasmas2013

    • 著者名/発表者名
      Anil Pandey, Keiji Nakamura, Hideo Sugai
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Express

      巻: 6

    • NAID

      10031174342

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [雑誌論文] Observation of Optical Fluorescence of GaN Thin Fims in an Inductively Coupled Plasma Containing High Energy Electrons2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Guo, K.Nakamura, J.Zhang, Y.Nakano, H.Sugai
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys.

      巻: 50

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [雑誌論文] Advanced high-pressure plasma diagnostics with hairpin resonator probe surrounded by film and sheath2010

    • 著者名/発表者名
      J.Xu, J.Shi, J.Zhang, Q.Zhang, K.Nakamura, H.Sugai
    • 雑誌名

      Chinese Physics B 29

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [雑誌論文] Observation of Optical Fluorescence of GaN Thin Films in an Inductively-Coupled Plasma Containing High Energy Electrons2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Guo, K.Nakamura, J.Zhang, Y.Nakano, H.Sugai
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 50

    • NAID

      210000138234

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [雑誌論文] 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果2010

    • 著者名/発表者名
      中村圭二, 張祺, 菅井秀郎
    • 雑誌名

      電気学会論文誌A

      巻: 130 ページ: 930-934

    • NAID

      10026693463

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [雑誌論文] 反応性プロセシングプラズマにおける電子密度測定用平板型マイクロ波共振器プローブとシース効果2010

    • 著者名/発表者名
      中村圭二,張祺,菅井秀郎
    • 雑誌名

      電気学会論文誌A 130

      ページ: 930-934

    • NAID

      10026693463

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [雑誌論文] Advanced high-pressure plasma diagnostics with hairpin resonator probesurrounded by film and sheath2010

    • 著者名/発表者名
      J.Xu, J.Shi J.Zhang, Q.Zhang, K.Nakamura, H.Sugai
    • 雑誌名

      Chinese Physics B

      巻: 19

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [雑誌論文] Simulation of Resistive Microwave Resonant Probe for High Pressure Plasma Diagnostics2009

    • 著者名/発表者名
      J.Xu, K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
    • 雑誌名

      Plasma Sources Science and Technology 28

      ページ: 45009-45018

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [雑誌論文] Extension of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Temperature2008

    • 著者名/発表者名
      K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proc.30th international symposium on dry process

      ページ: 181-182

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [雑誌論文] Extension of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Temperature2008

    • 著者名/発表者名
      K. Nakamura, Q. Zhang, H. Sugai
    • 雑誌名

      Proc. 30th international symposium on dry process

      ページ: 181-182

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [雑誌論文] Investigation on Surface Wave Probe for Measurements of Electron Density and Electron Temperature2006

    • 著者名/発表者名
      O.Hirano, K.Nakamura, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proc.6th Int.Conf.Reactive Plasmas (ICRP-6)/ 23rd Symp.Plasma Processing, (January 2006, Japan), P-3B-14

      ページ: 727-728

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15340200
  • [雑誌論文] Slot-Excited Surface Wave Plasma for Giant Scale Processing2006

    • 著者名/発表者名
      H.Sugai, Y.Nojiri, T.Ishijima, H.Toyoda
    • 雑誌名

      Proceedings of 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing

      ページ: 17-18

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Slot-Exited Surface Wave Plasma for Giant Scale Processing2006

    • 著者名/発表者名
      H.Sugai, Y.Nojiri, T.Ishijima, H.Toyoda
    • 雑誌名

      Proceedings of 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing

      ページ: 17-18

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] High-Pressure Large-Area Cold Plasma Production by Microwave Discharge2006

    • 著者名/発表者名
      Y.Kouyama, T.Ishijima, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proceedings of 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing

      ページ: 581-582

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Microwave Irradiation Effect on Sonoluminescence Excited by Ultrasonic Waves2006

    • 著者名/発表者名
      H.Hotta, T.Ishijima, M.Sato, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proceedings of 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing

      ページ: 579-580

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17654117
  • [雑誌論文] Production of Multi-Bubblc Plasmas in Water by Slot-Excited Microwave Discharge2006

    • 著者名/発表者名
      H.Hotta, T Ishijima, M.Sato, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proceedings of 6th International Symposium on Dry Process

      ページ: 313-314

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17654117
  • [雑誌論文] Evidence of Direct SiO_2 Etching by Fluorocarbon Molecules under Ion Bombardment2005

    • 著者名/発表者名
      N.Takada, H.Toyoda, I.Murakami, H.Sugai
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 97・1

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Gas Feed Position Control for High-Quality μc-Si Film Deposition at High Speed in Surface Wave Plasma2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Hotta, T.Okayasu, Y.Takanishi, H.Toyoda, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proceedings of 5th International Symposium on Dry process

      ページ: 297-298

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] ジャイアントプラズマプロセス -低圧から大気圧プロセスまで-2005

    • 著者名/発表者名
      菅井 秀郎
    • 雑誌名

      静電気学会誌 29・3

      ページ: 144-149

    • NAID

      10015672530

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Control of Meter-Scale High-Density Microwave Plasma for Giant Materials Processing2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Nojiri, Y.Yamaguchi, T.Ishijima, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proceedings of 5th International Symposium on Dry process

      ページ: 19-20

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Diagnostics of Surface Wave Plasmas for Giant Materials Processing2005

    • 著者名/発表者名
      H.Sugai, Y.Nojiri, T.Ishijima, E.Stamatc, H.Toyoda
    • 雑誌名

      Abstracts of 17th International Symposium on Plasma Chemistry

      ページ: 56-57

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Control of Meter-Scale High-Density Microwave Plasma for Giant Materials Processing2005

    • 著者名/発表者名
      Y.Nojiri, Y.Yamaguchi, T.Ishijima, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proceedings of 5th International Symposium on Dry Process

      ページ: 19-20

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Evidence of Direct SiO_2 Etching by Fluorocarbon Molecules under Ion Bombardment2005

    • 著者名/発表者名
      N.Takada, H.Toyoda, I.Murakami, H.Sugai
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 97・1

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15540474
  • [雑誌論文] Diagnostics of Surface Wave Plasmas for Giant Materials Processing2005

    • 著者名/発表者名
      H.Sugai, Y.Nojiri, T.Ishijima, E.Stamate, H.Toyoda
    • 雑誌名

      Abstracts of 17th International Symposium on Plasma Chemistry

      ページ: 56-57

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Electron Density Measurements with Surface Wave Probes in Magnetized Plasmas2005

    • 著者名/発表者名
      K.Nakamura, S.Yajima, H.Sugai
    • 雑誌名

      American Vacuum Society 52nd Int.Symp.& Exhibition(October 2005, U.S.A) PS-TuP22

      ページ: 107-107

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15340200
  • [雑誌論文] Distributions of electron density and deposition rate of a narrow-gap plasma polymerization system2005

    • 著者名/発表者名
      K.Kinoshita, K.Nakamura, J.Kawahara, O.Kiso, N.Toyoda, H.Sugai, T.Kikkawa
    • 雑誌名

      XXVII International Conference on Phenomena in Ionized Gases, (July 17-22, Netherlands), 10-200 CD-ROM

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15340200
  • [雑誌論文] Investigation of Energetic Electrons in a 915MHz Surface Wave Plasma2004

    • 著者名/発表者名
      E.Stamate, S.Nakao, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proc.ESCAMPIG 17 (The 17th European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases

      ページ: 31-32

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Plasma Production and Control for Materials Processing2004

    • 著者名/発表者名
      H.Sugai, E.Abdel-Fattah, T.Ishijima, P.Ganachev
    • 雑誌名

      Abstracts of 7th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology & 17th Symposium on Plasma Science for Materials

      ページ: 503-503

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Beam Study on the Si and SiO_2 Etching Processes by Energetic Fluorocarbon Ions2004

    • 著者名/発表者名
      H.Toyoda, H.Morishima, R.Fukute, Y.Hod, I.Murakami, H.Sugai
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 95・5

      ページ: 5172-5179

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15540474
  • [雑誌論文] Influence of Dielectric Window Material and Pumping Speed on Silicon Film Crystallinity Deposited by Surface Wave Plasma2004

    • 著者名/発表者名
      Y.Hotta, H.Toyoda, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proceedings of 4th International Symposium on Dry Process

      ページ: 63-66

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Investigation of Plasma Nitridation of Silicon (111) as a Mask Layer for GaN Selective Area Growth2004

    • 著者名/発表者名
      T.Ishijima, S.Frederico, Y.Honda, H.Sugai
    • 雑誌名

      Abstracts of 7th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology & 17th Symposium on Plasma Science for Materials

      ページ: 118-118

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Experiment Evidence of SiO_2 Etching by Co-Incidence of Fluorocarbon Molecule and Energetic Ar Ion Beam2004

    • 著者名/発表者名
      N.Takada, H.Toyoda, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proc.International Symposium on Dry Process ‘04

      ページ: 47-50

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15540474
  • [雑誌論文] Plasma Sources Development in VHF/Microwave Range for Materials Processing2004

    • 著者名/発表者名
      H.Sugai, E.Abdel-Fattah, E.Stamate, T.Ishijima
    • 雑誌名

      Abstracts of International Symposium on Novel Materials Processing by Advanced Electromagnetic Energy Sources

      ページ: 28-28

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] High Speed Deposition of μc-Si and Large Grain Poly-Si Films by Surface-Wave Excited H_2/SiH_4 Plasma2004

    • 著者名/発表者名
      T.Toyoda, Y.Hotta, H.Sugai
    • 雑誌名

      Abstracts of 15th Symposium of Materials Research Society of Japan

      ページ: 138-138

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Experiment Evidence of SiO_2 Etching by Co-Incidence of Fluorocarbon Molecule and Energetic Ar Ion Beam2004

    • 著者名/発表者名
      N.Takada, H.Toyoda, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proc.International Symposium on Dry Process '04

      ページ: 47-50

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15540474
  • [雑誌論文] Chemical Reactivity of Fluorocarbon Molecules on SiO_2/Si Surface under Co-Incidence with Energetic Argon Ions2004

    • 著者名/発表者名
      N.Takada, H.Toyoda, H.Sugai
    • 雑誌名

      Abstracts Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology/Symposium on Plasma Science for Materials

      ページ: 368-368

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15540474
  • [雑誌論文] Beam Study on the Si and SiO_2_Etching Processes by Energetic Fluorocarbon Ions2004

    • 著者名/発表者名
      H.Toyoda, H.Morishima, R.Fukute, Y.Hori, I.Murakami, H.Sugai
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 95・5

      ページ: 5172-5179

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15540474
  • [雑誌論文] Chemical Reactivity of Fluorocarbon Molecules on SiO_2/Si Surface under Co-Incidence with Energetic Argon Ions2004

    • 著者名/発表者名
      N.Takada, H.Toyoda, H.Sugai
    • 雑誌名

      Abstracts Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology / Symposium on Plasma Science for Materials

      ページ: 368-368

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15540474
  • [雑誌論文] Production of Meter-scale High-density Microwave Plasmas for Giant Materials Processing2004

    • 著者名/発表者名
      H.Sugai, Y.Nojiri, T.Ishijima, E.Stamate
    • 雑誌名

      Abstracts of the 51th International Symposium on American Vacuum Society

      ページ: 112-112

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Giant Plasma Production for Meter-scale Materials Processing2004

    • 著者名/発表者名
      H.Sugai, Y.Nojiri, K.Takasu, T.Ishijia
    • 雑誌名

      Abstracts of 15th Symposium of Materials Research Society of Japan

      ページ: 143-143

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Impurity Release and Suppression in Deposition of Nano-Micro and Poly-crystalline Sillicon Films by a Surface-Wave Excited Plasma2004

    • 著者名/発表者名
      H.Toyoda, S.Somiya, Y.Hotta, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proceedings of International Workshop on Plasma Nano-Technology and Its Future Vision

      ページ: 17-17

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Beam Study on the Si and SiO_2 Etching Processes by Energetic Fluorocarbon Ions2004

    • 著者名/発表者名
      H.Toyoda, H.Morishima, R.Fukute, Y.Hori, I.Murakami, H.Sugai
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 95・5

      ページ: 5172-5179

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15540474
  • [雑誌論文] Radical Diagnostics in Silicon Oxidation Process Using Surface Wave Plasma2004

    • 著者名/発表者名
      T.Ishijima, Y.Tanabe, H.Sugai
    • 雑誌名

      Abstracts of 15th Symposium of Materials Research Society of Japan

      ページ: 144-144

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Investigation of Energetic Electrons in a 915MHz Surface Wave Plasma for Oxygen-based Resist Ashing2004

    • 著者名/発表者名
      S.Nakao, E.Stamate, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proceedings of 4th International Symposium on Dry Process

      ページ: 103-106

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Suppression and Oxygen Impurity Incorporationinto Silicon Films Prepared from Surface-Wave Excited H_2/SiH_4 Plasma2004

    • 著者名/発表者名
      S.Somiya, H.Toyoda, Y.Hotta, H.Sugai
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics Vol.43, No.11A

      ページ: 7696-7700

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Suppression and Oxygen Impurity Incorporation into Silicon Films Prepared from Surface-Wave Excited H_2/SiH_4 Plasma2004

    • 著者名/発表者名
      S.Somiya, H.Toyoda, Y.Hotta, H.Sugai
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 43・11A

      ページ: 7696-7700

    • NAID

      10014030844

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Novel Giant-Size Plasmas Produced by Microwave Discharge with Slot Antenna Array2004

    • 著者名/発表者名
      H.Sugai, Y.Nojiri, K.Takasu, T.Ishijima, E.Stamate
    • 雑誌名

      Abstracts of the 57th Annual Gaseous Electronics Conference 49・5

      ページ: 10-10

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Meter-Scale High-Density Microwave Plasma Production with Novel Antenna Coupler Design2004

    • 著者名/発表者名
      Y.Nojiri, K.Takasu, T.Ishijima, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proceedings of 4th International Symposium on Dry Process

      ページ: 67-70

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Observation of SiO_2/Si Surface under Co-incidence of Fluorocarbon Molecules and Energetic Argon Ions2004

    • 著者名/発表者名
      N.Takada, H.Toyoda, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proc.Int.COE Forum on Plasma Science and Technology

      ページ: 209-210

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15540474
  • [雑誌論文] Investigation of Energetic Electrons in a 915 MHz Surface Wave Plasma Produced in Ar and O_22004

    • 著者名/発表者名
      E.Stamate, S.Nakao, H.Sugai
    • 雑誌名

      Abstracts of 7th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology & 17th Symposium on Plasma Science for Materials

      ページ: 222-222

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Advanced Large-Area Microwave Plasmas for Materials Processing2003

    • 著者名/発表者名
      Ganachev, H.Sugai
    • 雑誌名

      Surface and Coatings Technology Vol.174-175

      ページ: 15-20

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Observation of SiO_2 Surface Irradiated by Fluorocarbon Neutrals and Energetic Ion Beam2003

    • 著者名/発表者名
      H.Toyoda, N.Takada, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proc.Int.Sympo.Dry Process '03

      ページ: 259-264

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15540474
  • [雑誌論文] Advanced Large-Area Microwave Plasmas for Materials Processing2003

    • 著者名/発表者名
      I.Ganachev, H.Sugai
    • 雑誌名

      Surface and Coatings Technology 174-175

      ページ: 15-20

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15204053
  • [雑誌論文] Electron Density Measurements with Surface Wave Probes in Magnetized Plasmas

    • 著者名/発表者名
      K.Nakamura, S.Yajima, H.Sugai
    • 雑誌名

      American Vacuum Society 52nd Int.Symp. & Exhibition (October 2005, U.S.A) PS-TuP22

      ページ: 107-107

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15340200
  • [雑誌論文] Investigation on Surface Wave Probe for Measurements of Electron Density and Electron Temperature

    • 著者名/発表者名
      O.Hirano, K.Nakamura, H.Sugai
    • 雑誌名

      Proc.6th Int.Conf.Reactive Plasmas (ICRP-6)/23rd Symp.Plasma Processing (January 2006, Japan) P-3B-14

      ページ: 727-728

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15340200
  • [雑誌論文] Distributions of electron density and deposition rate of a narrow-gap plasma polymerization system

    • 著者名/発表者名
      K.Kinoshita, K.Nakamura, J.Kawahara, O.Kiso, N.Toyoda, H.Sugai, T.Kikkawa
    • 雑誌名

      Proc.27th Int.Conf Phenomena in Ionized Gases(ICPIG-2005);(July 2005, The Netherlands) 10-200

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15340200
  • [学会発表] Curling probe analysis and simulation for collisional plasma2014

    • 著者名/発表者名
      A. Pandey, K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      8th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP2014) /31st Symposium on Plasma Processing(SPP-31)
    • 発表場所
      Fukuoka Convention Center, Japan
    • 年月日
      2014-02-05
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Development of curling probe for monitoring of reactive plasmas2014

    • 著者名/発表者名
      K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      8th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP2014) /31st Symposium on Plasma Processing(SPP-31)
    • 発表場所
      Fukuoka Convention Center, Japan
    • 年月日
      2014-02-07
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Simplified analysis and FDTD simulation of curling probe2014

    • 著者名/発表者名
      A. PANDEY, K. NAKAMURA and H. SUGAI
    • 学会等名
      6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Application for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2014) / 7th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2014)
    • 発表場所
      Meijo University, Japan
    • 年月日
      2014-03-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Simplified analysis and FDTD simulation of curling probe2014

    • 著者名/発表者名
      A. PANDEY, K. NAKAMURA and H. SUGAI
    • 学会等名
      6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Application for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2014)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Curling probe analysis and simulation for collisional plasma2014

    • 著者名/発表者名
      A. Pandey, K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      8th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP2013) /31st Symposium on Plasma Processing(SPP-31) (February 2014, Japan) 7C-AM-I5
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Development of curling probe for monitoring of reactive plasmas2014

    • 著者名/発表者名
      K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      8th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP2013) /31st Symposium on Plasma Processing(SPP-31) (February 2014, Japan) 7C-AM-I5
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Opto-curling probe Monitoring of local density of electron and radicals2013

    • 著者名/発表者名
      A. Pandey, K. Kato. , S. Ikezawa, K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      21st International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC2013)
    • 発表場所
      Cairns, Australia
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Opto-curling Probe Method for Space-resolved Measurement of Electron and Radical Densities in Plasma2013

    • 著者名/発表者名
      A. Pandey, K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      35th Int. Symp. Dry Process (DPS2013)
    • 発表場所
      Korea
    • 年月日
      2013-08-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Opto-curling probe Monitoring of local density of electron and radicals2013

    • 著者名/発表者名
      A. Pandey, K. Kato. , S. Ikezawa, K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      21st International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC2013)
    • 発表場所
      Australia
    • 年月日
      2013-08-06
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Opto-curling Probe Method for Space-resolved Measurement of Electron and Radical Densities in Plasma2013

    • 著者名/発表者名
      A. Pandey, K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      35th Int. Symp. Dry Process (DPS2013)
    • 発表場所
      Jeju, Korea
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Miniaturization of Plane-Type Microwave Resonator Probe with Multi-Resonant Frequencies2012

    • 著者名/発表者名
      K. Nakamura, H. Kumazaki and N. Sugai
    • 学会等名
      5th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2012) P-01
    • 発表場所
      Japan/ Meitetsu Inuyama Hotel
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Miniaturization of Plane-Type Microwave Resonator Probe with Multi-Resonant Frequencies2012

    • 著者名/発表者名
      K. Nakamura, H. Kumazaki and H. Sugai
    • 学会等名
      5th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2012)
    • 発表場所
      Meitetsu Inuyama Hotel, Japan
    • 年月日
      2012-03-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Novel diagnostic tool, curling probe, for monitoring electron density during plasma processing2012

    • 著者名/発表者名
      Anil Pandey, Kimitaka Kato, Shunjiro Ikezawa, Keiji Nakamura, Hideo Sugai
    • 学会等名
      65th Gaseous Electronics Conference
    • 発表場所
      Austin, Texas, U. S. A.
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Monitoring of electron density and wall deposit by curling probe during plasma process2012

    • 著者名/発表者名
      A. Pandey, M. Imai, H. Kanematsu, S. Ikezawa, K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      2012 International Symposium on Dry Process
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Monitoring of electron density and wall deposit by curling probe during plasma process2012

    • 著者名/発表者名
      A. Pandey, M. Imai, H. Kanematsu, S. Ikezawa, K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      34th Int. Symp. Dry Process (DPS2012)
    • 発表場所
      Univ. Tokyo, Japan
    • 年月日
      2012-11-16
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Miniaturization of plane-type microwave resonator probe2012

    • 著者名/発表者名
      E. Kumazaki, K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Application for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2012) P2005A
    • 発表場所
      Japan/ Chubu University
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] In-situ Monitoring of Surface Modification of GaN Films Exposed to Inductively-Coupled Plasmas2012

    • 著者名/発表者名
      Keiji Nakamura, Mio-Gen Chen, Yoshitaka Nakano, Hideo Sugai
    • 学会等名
      65th Gaseous Electronics Conference
    • 発表場所
      Austin, Texas, U. S. A.
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] スパイラルアンテナを用いたマルチ共振型マイクロ波共振器プローブの小型化2012

    • 著者名/発表者名
      中村圭二, 熊崎恵未, 菅井秀郎
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会17p-B8-3
    • 発表場所
      東京・早稲田大学
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] In-situ Photoluminescence Measurements of GaN Films Exposed to Inductively-Coupled Plasmas2012

    • 著者名/発表者名
      K. Nakamura M. G. Chen, Y. Nakano and H. Sugai
    • 学会等名
      2012 International Symposium on Dry Process
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Novel diagnostic tool, curling probe, for monitoring electron density during plasma processing2012

    • 著者名/発表者名
      A. PANDEY, Y. LIANG. , S. IKEZAWA, K. NAKAMURA and H. SUGAI
    • 学会等名
      65th Annual Gaseous Electronics Conference (GEC)
    • 発表場所
      U. S. A.
    • 年月日
      2012-10-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] In-situ Monitoring of Surface Modification of GaN Films Exposed to Inductively-Coupled Plasmas2012

    • 著者名/発表者名
      K. NAKAMURA, M. CHEN, Y. NAKANO and H. SUGAI
    • 学会等名
      65th Annual Gaseous Electronics Conference (GEC)
    • 発表場所
      U. S. A.
    • 年月日
      2012-10-25
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] In-situ Photoluminescence Measurements of GaN Films Exposed to Inductively-Coupled Plasmas2012

    • 著者名/発表者名
      K. NAKAMURA, M. CHEN, Y. NAKANO and H. SUGAI
    • 学会等名
      34th Int. Symp. Dry Process (DPS2012)
    • 発表場所
      Univ. Tokyo, Japan
    • 年月日
      2012-11-15
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Miniaturization of plane-type microwave resonator probe2012

    • 著者名/発表者名
      E. Kumazaki, K. Nakamura and H. Sugai
    • 学会等名
      4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Application for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2012)
    • 発表場所
      Chubu Univ. Japan
    • 年月日
      2012-03-05
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] マイクロ波共振器プローブを用いた密度計測における精度向上2011

    • 著者名/発表者名
      熊崎恵未, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      第72回応用物理学会学術講演会 31a-ZJ-3
    • 発表場所
      山形・山形大学
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] Miniaturization of Plane-Type Microwave Resonator Probe2011

    • 著者名/発表者名
      E.Kumazaki, K.Nakamura, H.Sugai
    • 学会等名
      3rd Int.Symp.Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • 年月日
      2011-03-07
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] 周波数プローブによる電子密度計測2011

    • 著者名/発表者名
      中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      Plasma Conference 2011 (PLASMA2011) S-O1-1(招待講演)
    • 発表場所
      金沢・石川県立音楽堂
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23540581
  • [学会発表] E結合コンパクト周波数シフトプローブによる電子密度測定II2011

    • 著者名/発表者名
      梁以資, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      第58回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(厚木市)(講演会は中止)
    • 年月日
      2011-03-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] マイクロ波共振器プローブを用いた電子密度計測における測定精度向上';,;第58回応用物理学関係連合講演会2011

    • 著者名/発表者名
      熊崎恵未, 土屋貴, 中村博, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      第58回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(厚木市)(講演会は中止)
    • 年月日
      2011-03-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Electron Density Measurement by Novel Frequency Shift Probe2011

    • 著者名/発表者名
      I.Liang, K.Kato, K.Nakamura, H.Sugai
    • 学会等名
      3rd Int.Symp.Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • 年月日
      2011-03-07
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] コンパクト周波数シフトプローブによる電子密度測定2010

    • 著者名/発表者名
      梁以資, 加藤公孝, 熊崎恵未, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学
    • 年月日
      2010-09-15
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] マイクロ波共振プローブの高次モードによる電子密度計測2010

    • 著者名/発表者名
      保田将宏, 梁以資, 太田習, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      平成22年度電気関係学会東海支部連合大会
    • 発表場所
      中部大学(春日井市)
    • 年月日
      2010-08-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Plasma Electron Monitoring with Multi-Resonator Frequency Shift Probe2010

    • 著者名/発表者名
      Q.Zhang, K.Nakamura, H.Sugai
    • 学会等名
      2nd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Application for Nitrides and Nanomaterials
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Expansion to Higher Mode in Electron Density Measurement by Microwave resonator Probe2010

    • 著者名/発表者名
      I.Liang, S.Ohta, K.Kato, K.Nakamura, H.Sugai
    • 学会等名
      63rd Gaseous Electronica Conference (GEC2010)/7th Int.Conf.Reactive Plasmas (ICRP-7)/28th Syp.Plasma Processing (SPP-28)
    • 発表場所
      Paris, France
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] 電界結合型周波数シフトプローブによる電子密度計測2010

    • 著者名/発表者名
      梁以資, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      平成22年度電気関係学会東海支部連合大会
    • 発表場所
      中部大学(春日井市)
    • 年月日
      2010-08-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] スパイラルアンテナを用いた小型マイクロ波共振器プローブによる電子密度測定2010

    • 著者名/発表者名
      中村博, 新海康史, 土屋貴, 熊崎恵未, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      平成22年度電気関係学会東海支部連合大会
    • 発表場所
      中部大学(春日井市)
    • 年月日
      2010-08-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] 電子密度測定用マイクロ波共振プローブの高次モードへの拡張2010

    • 著者名/発表者名
      梁以資, 太田習, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学
    • 年月日
      2010-09-15
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] スパイラルアンテナを用いたマイクロ波共振器プローブの小型化2010

    • 著者名/発表者名
      熊崎恵未, 新海康史, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      平成22年度電気関係学会東海支部連合大会
    • 発表場所
      中部大学(春日井市)
    • 年月日
      2010-08-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Monitoring of Electron Density with Frequency Shift Probes in Reactive Processing Plasmas2009

    • 著者名/発表者名
      K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
    • 学会等名
      2nd Int.Conf.Plasma-Nano Technol.& Sci.(IC-PLANTS2009)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • 年月日
      2009-01-22
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Application of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Temperature2009

    • 著者名/発表者名
      Q. Zhang, K. Nakamura, H. Sugai
    • 学会等名
      8th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics
    • 発表場所
      Gifu, Japan
    • 年月日
      2009-01-21
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Influence of Polymer Depositon on Electron Monitoring with Frequency Shift Probes2009

    • 著者名/発表者名
      Q. Zhang, K. Nakamura, H. Sugai
    • 学会等名
      1st Int. Symp. Advanced Plasma Science& its Applications (ISPlasma 2009)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • 年月日
      2009-03-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Influence of Sheath on Measurement of Electron Density in Frequency Shift Probe and its Application to Measurement of Electron Temperature2009

    • 著者名/発表者名
      K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
    • 学会等名
      American Vaccuum Society 56th Int.Symp.and Exhibition (AVS-56)
    • 発表場所
      San Jose, U.S.A.
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Monitoring of Electron Density with Frequency Shift Probes in Reactive Processing Plasmas2009

    • 著者名/発表者名
      K. Nakamura, Q. Zhang, H. Sugai
    • 学会等名
      2nd Int. Conf. Plasma-Nano Technol. &Sci. (IC-PLANTS2009)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • 年月日
      2009-01-22
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Development of Electron-Based Plasma Monitoring for Precise Control of Plasma Process2009

    • 著者名/発表者名
      K. Nakamura, H. Sugai
    • 学会等名
      1st Int. Symp. Advanced Plasma Science& its Applications (ISPlasma 2009)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • 年月日
      2009-03-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Development of Electron-Based Plasma Monitoring for Precise Control of Plasma Process2009

    • 著者名/発表者名
      K.Nakamura, H.Sugai
    • 学会等名
      1st Int.Symp.Advanced Plasma Science & its Applications (ISPlasma 2009)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • 年月日
      2009-03-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Influence of Polymer Depositon on Electron Monitoring with Frequency Shift Probes2009

    • 著者名/発表者名
      Q.Zhang, K.Nakamura, H.Sugai
    • 学会等名
      1st Int.Symp.Advanced Plasma Science & its Applications (ISPlasma2009)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • 年月日
      2009-03-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] 周波数シフトプローブを用いた大気圧プラズマのモニタリングの検討2009

    • 著者名/発表者名
      金徐州, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      第56回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      つくば市・筑波大学
    • 年月日
      2009-03-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Microwave Plasma Control with use of Multi-Hollow Dielectric Plate2009

    • 著者名/発表者名
      S. Ohta, T. Sano, Y. Liang, K. Nakamura, H. Sugai
    • 学会等名
      1st Int. Symp. Advanced Plasma Science& its Applications (ISPlasma 2009)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • 年月日
      2009-03-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Sheath Effects on Electron Density Measurements in Frequency Shift Probe and their Application to Electron Temperature Measurements2009

    • 著者名/発表者名
      K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
    • 学会等名
      62nd Gaseous Electronics Conference (GEC2009)
    • 発表場所
      Saratoga, U.S.A.
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Influence of Polymer Deposition on Frequency Shift Probe2009

    • 著者名/発表者名
      張祺, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会
    • 発表場所
      名古屋市・名古屋大学
    • 年月日
      2009-02-02
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] 周波数シフトプローブによるSiウェハーを介した電子密度計測の基礎的検討2008

    • 著者名/発表者名
      式地祐麻, 井上雄介, 張祺, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      平成20年度電気関係学会東海支部連合大会
    • 発表場所
      愛知県・愛知県立大学
    • 年月日
      2008-09-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Development of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Density in Reactive Nano-Materials Processing Plasmas2008

    • 著者名/発表者名
      K. Nakamura, Q. Zhang, H. Sugai
    • 学会等名
      IUMRS International Conference in Asia2008 (IUMRS-ICA 2008)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • 年月日
      2008-12-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Development of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Density in Reactive Nano-Materials Processing Plasmas2008

    • 著者名/発表者名
      K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
    • 学会等名
      IUMRS International Conference in Asia 2008 (IUMRS-ICA 2008)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan(招待講演)
    • 年月日
      2008-12-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] マイクロ波マルチホロー放電におけるプラズマ制御 ; (2008年9月 愛知県立大学)0-0086, p.2008

    • 著者名/発表者名
      太田習, 佐野貴憲, 塩出悠喜, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      平成20年度電気関係学会東海支部連合大会
    • 発表場所
      愛知県・愛知県立大学
    • 年月日
      2008-09-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Effects of probe shape on electron density measurements with frequency shift2008

    • 著者名/発表者名
      probesK. Nakamura, Q. Zhang, H. Sugai
    • 学会等名
      14th International Congress on Plasma Physics 2008
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • 年月日
      2008-09-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Extension of Frequency Shift Probes for Monitoring of Electron Temperature2008

    • 著者名/発表者名
      K. Nakamura, Q. Zhang, H. Sugai
    • 学会等名
      30th international symposium on dry process
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • 年月日
      2008-11-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] 周波数シフトプローブの電子温度計測への応用2008

    • 著者名/発表者名
      中村圭二, 張祺, 菅井秀郎
    • 学会等名
      電気学会プラズマ研究会
    • 発表場所
      仙台市・東北大学
    • 年月日
      2008-10-31
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] Effects of probe shape on electron density measurements with frequency shift2008

    • 著者名/発表者名
      K.Nakamura, Q.Zhang, H.Sugai
    • 学会等名
      14th International Congress on Plasma Physics
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • 年月日
      2008-09-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] スリット形状による周波数シフトプローブにおける電子密度測定の精度改善2008

    • 著者名/発表者名
      張祺, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      第69回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛知県・中部大学
    • 年月日
      2008-09-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] 周波数シフトプローブを用いた電子密度計測におけるプローブ形状の効果' ;, ; (2008年5月 名古屋) PST-08-26, pp. 1-62008

    • 著者名/発表者名
      張祺, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      電気学会プラズマ研究会
    • 発表場所
      名古屋市・名古屋工業大学
    • 年月日
      2008-05-23
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • [学会発表] マイクロ波マルチホロー放電におけるプラズマ制御2008

    • 著者名/発表者名
      太田習, 佐野貴憲, 塩出悠喜, 加藤公孝, 中村圭二, 菅井秀郎
    • 学会等名
      平成20年度電気関係学会東海支部連合大会
    • 発表場所
      愛知県・愛知県立大学
    • 年月日
      2008-09-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20540487
  • 1.  豊田 浩孝 (70207653)
    共同の研究課題数: 15件
    共同の研究成果数: 21件
  • 2.  中村 圭二 (20227888)
    共同の研究課題数: 13件
    共同の研究成果数: 79件
  • 3.  石島 達夫 (00324450)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 16件
  • 4.  橘 邦英 (40027925)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  永津 雅章 (20155948)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  池澤 俊治郎 (60065282)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  播磨 弘 (00107351)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  松田 彰久
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 9.  佐々木 浩一 (50235248)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 10.  後藤 俊夫 (50023255)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 11.  奥田 孝美 (30022990)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 12.  高須賀 誠一
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 13.  真壁 利明 (60095651)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 14.  渡辺 征夫 (80037902)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 15.  村岡 克紀 (80038546)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 16.  松岡 良輔 (10308819)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 17.  近藤 道雄 (30195911)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 18.  山口 作太郎 (10249964)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 19.  河野 明廣 (40093025)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 20.  岸 くめよ (20023129)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 21.  高村 秀一 (40023254)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 22.  佐藤 徳芳 (40005252)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 23.  酒井 洋輔 (20002199)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 24.  河合 良信 (10038565)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 25.  神藤 正士 (60023248)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 26.  堤 喜代司 (50111993)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 27.  西城 浩志 (80111996)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 28.  北川 雅俊
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 29.  TOYODA Naoki
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 30.  GHANASHEV Ivan
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 31.  IVAN Ghanashev
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 32.  西谷 幹彦
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 33.  神田 稔
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 34.  豊田 直樹
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 35.  木下 啓蔵
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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